一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉制造技术

本实用新型专利技术属于真空炉设备技术领域，具体地说是一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。包括电控系统、炉壳、加热室、真空系统及多组发热组件，其中加热室设置于炉壳内，多组发热组件设置于加热室内，并且与电控系统连接，真空系统与炉壳连接，用于对炉壳内进行抽真空，电控系统用于控制真空系统及多组发热组件。本实用新型专利技术整个工作过程安全性好，操作简单，产品质量好，成品率高，设备整体寿命长，易维修，生产温度阈值上限高。

【技术实现步骤摘要】
一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉
本技术属于真空炉设备
，具体地说是一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。
技术介绍
用于反应烧结碳化硅制品的真空炉是生产碳化硅制品的主要生产设备。现有真空炉大多生产效率低，成品率差，设备生产温度阈值低，设备的寿命短，维修不方便，极大提高了生产成本。为了提高产品质量，降低生产成本，急需一种成品率高，设备寿命长，生产温度阈值上限高的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。
技术实现思路
针对上述问题，本技术的目的在于提供一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，以解决现有真空炉操作复杂，设备寿命短，维修困难，生产温度阈值低，而且产品的质量差，成品率低的问题。为了实现上述目的，本技术采用以下技术方案：一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，包括电控系统、炉壳、加热室、真空系统及多组发热组件，其中加热室设置于炉壳内，多组发热组件设置于加热室内，并且与电控系统连接；所述真空系统与所述炉壳连接，用于对所述炉壳内进行抽真空；所述电控系统用于控制真空系统及多组发热组件。所述发热组件包括电极棒、发热体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，包括电控系统(1)、炉壳(2)、加热室(3)、真空系统(8)及多组发热组件(4)，其中加热室(3)设置于炉壳(2)内，多组发热组件(4)设置于加热室(3)内，并且与电控系统(1)连接；所述真空系统(8)与所述炉壳(2)连接，用于对所述炉壳(2)内进行抽真空；所述电控系统(1)用于控制真空系统(8)及多组发热组件(4)。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，包括电控系统(1)、炉壳(2)、加热室(3)、真空系统(8)及多组发热组件(4)，其中加热室(3)设置于炉壳(2)内，多组发热组件(4)设置于加热室(3)内，并且与电控系统(1)连接；所述真空系统(8)与所述炉壳(2)连接，用于对所述炉壳(2)内进行抽真空；所述电控系统(1)用于控制真空系统(8)及多组发热组件(4)。


2.根据权利要求1所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述发热组件(4)包括电极棒(35)、发热体(310)及支撑组件，其中电极棒(35)的一端插设于所述加热室(3)内，另一端通过铜排与所述电控系统(1)连接，所述发热体(310)通过支撑组件设置于所述加热室(3)内，并且与所述电极棒(35)连接。


3.根据权利要求2所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述支撑组件包括连接梁(34)和支撑棒(36)；所述发热体(310)的两端分别与一连接梁(34)连接，所述连接梁(34)通过支撑棒(36)与所述加热室(3)固定连接。


4.根据权利要求3所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述连接梁(34)和支撑棒(36)均采用石墨材质，其中一所述连接梁(34)的一端与所述电极棒(35)连接。


5.根据权利要求1所述的用于反应烧结碳化硅制品的真空炉，其特征在于，所述加热室(3)内设有石墨盒(37)，所述石墨盒(37)放置于所述加热室(3)内设有...

【专利技术属性】
技术研发人员：程革，吴振磊，孔德惠，吴冰，张天龙，于洪斌，刘鹏程，陶崇浩，李天华，赵嘉明，韩凤，何晓棠，
申请(专利权)人：沈阳沈真真空技术有限责任公司，
类型：新型
国别省市：辽宁;21