温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型属于真空炉设备技术领域，具体地说是一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。包括电控系统、炉壳、加热室、真空系统及多组发热组件，其中加热室设置于炉壳内，多组发热组件设置于加热室内，并且与电控系统连接，真空系统与炉壳连接，用于对炉壳内进行...
该专利属于沈阳沈真真空技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳沈真真空技术有限责任公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。