碱性蚀刻药水添加装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种碱性蚀刻药水添加装置，包括储液箱、第一抽液管、第二抽液管、预混合腔、药水添加泵和总管，储液箱内设置有第一存储槽和第二存储槽，第一抽液管的一端伸入第一存储槽内，第一抽液管的另一端与预混合腔连通，第二抽液管的一端伸入第二存储槽内，第二抽液管的另一端与预混合腔连通，预混合腔的出水口与药水添加泵的入水口连接，药水添加泵的出水口与总管连接。本实用新型专利技术将第一存储槽和第二存储槽与预混合腔连通，能够同时完成氨水和氯化铵的添加，由于两种药水统一由药水添加泵抽取，流速一致，因此两种药水的添加比例由第一抽液管和第二抽液管的横截面积之比决定，从而无需精确调节各种药液的输入速率。

【技术实现步骤摘要】
碱性蚀刻药水添加装置
本技术涉及电路板蚀刻技术，尤其涉及一种碱性蚀刻药水添加装置。
技术介绍
蚀刻是线路板生产过程中的一种重要工艺，按使用化学药剂的性质分为酸性蚀刻和碱性蚀刻。碱性蚀刻过程中，包括以下反应：(1)在氯化铜溶液中加入氨水，发生络合反应：CuCl2+4NH3→Cu(NH3)4Cl2(2)在蚀刻过程中，基板上面的铜被〔Cu(NH3)4〕2+络离子氧化，其蚀刻反应：Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl(3)蚀刻中所生成的〔Cu(NH3)2〕1+不具有蚀刻能力，在过量的氨水和氯离子存在的情况下，能很快地被空气中的氧所氧化，生成具有蚀刻能力的〔Cu(NH3)4〕2+络离子，其再生反应如下：2Cu(NH3)2Cl+2NH4Cl+2NH3+1/2O2→2Cu(NH3)4Cl+H2O所以在蚀刻时，需要不断补加氨水和氯化铵，也称子液。在添加子液的同时不断排出过剩的槽液，可维持药水铜离子浓度以确保蚀刻速率。然而现有的药水添加装置只能添加单一一种药液，且需要精确调节各个药液本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种碱性蚀刻药水添加装置，其特征在于：包括储液箱(1)、第一抽液管(2)、第二抽液管(3)、预混合腔(4)、药水添加泵(5)和总管(6)，所述储液箱(1)内设置有第一存储槽(11)和第二存储槽(12)，所述第一抽液管(2)的一端伸入所述第一存储槽(11)内，所述第一抽液管(2)的另一端与所述预混合腔(4)连通，所述第二抽液管(3)的一端伸入所述第二存储槽(12)内，所述第二抽液管(3)的另一端与所述预混合腔(4)连通，所述预混合腔(4)的出水口与所述药水添加泵(5)的入水口连接，所述药水添加泵(5)的出水口与所述总管(6)连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种碱性蚀刻药水添加装置，其特征在于：包括储液箱(1)、第一抽液管(2)、第二抽液管(3)、预混合腔(4)、药水添加泵(5)和总管(6)，所述储液箱(1)内设置有第一存储槽(11)和第二存储槽(12)，所述第一抽液管(2)的一端伸入所述第一存储槽(11)内，所述第一抽液管(2)的另一端与所述预混合腔(4)连通，所述第二抽液管(3)的一端伸入所述第二存储槽(12)内，所述第二抽液管(3)的另一端与所述预混合腔(4)连通，所述预混合腔(4)的出水口与所述药水添加泵(5)的入水口连接，所述药水添加泵(5)的出水口与所述总管(6)连接。


2.根据权利要求1所述的碱性蚀刻药水添加装置，其特征在于：所述第一抽液管(2)和第二抽液管(3)的横截面积之比等于药液反应的配比。


3.根据权利要求2所述的碱性蚀刻药水添加装置，其特征在于：所述总管(6)的截面积为所述第一抽液管(2)和第二抽液管(3)截面积之和。


4.根据权利要求3所述的碱性蚀刻药水添加装置，其特征在于：所述第一存储槽(11)和第二存储槽(12)的横截面积之比等于药液反应的配比。


5.根据权利要求1所述的碱性蚀刻药水添加装置，其特征在于：所述储液箱(1)的侧壁上设置有可视窗口...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈斌，卢耀普，黄治国，卢振华，刘国强，
申请(专利权)人：悦虎晶芯电路苏州股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32