【技术实现步骤摘要】
天线装置以及电子设备
本技术涉及包含线圈导体的天线装置以及具备该天线装置的电子设备。
技术介绍
在专利文献1中示出了如下的天线装置,其具备:增益天线,由基材片、和形成在该基材片的两面的第1线圈导体以及第2线圈导体构成;以及线圈天线,具有围绕卷绕轴卷绕的形状的线圈导体,线圈天线配置为与增益天线的线圈导体的一部分耦合。在先技术文献专利文献专利文献1:国际公开第2012/033031号在上述专利文献1所示的装置中,特别是,在如该专利文献1的图26、图27所示那样构成为使线圈天线靠近增益天线的线圈导体的一部分并使增益天线和线圈天线进行磁场耦合的天线装置中,根据线圈天线的配置位置,上述耦合系数大幅变动,因此存在如下课题,即,需要根据其配置位置,对各部分的结构每次都进行最佳的设计。
技术实现思路
技术要解决的课题因此,本技术的目的在于,提供一种提高连接供电电路的线圈导体和增益用的线圈导体的耦合、且通信特性稳定的天线装置、以及具备该天线装置的电子设备。用于解决课题的技术方案作为本公开的一个例子的天线装置具备:由绝缘体构成的第1基材,具有主面;第1线圈导体,沿着第1基材的主面形成,具有第1区域;由绝缘体构成的第2基材,具有主面;第2线圈导体,沿着第2基材的主面形成,具有第2区域;第1供电端子,形成在第2基材的主面,并与第2线圈导体的第1端连接;以及第2供电端子,形成在第2基材的主面,并与第2线圈导体的第2端连接。此外,在相对于第1基材的主面垂直的方向上观察,第1 ...
【技术保护点】
1.一种天线装置,其特征在于,具备:/n由绝缘体构成的第1基材,具有主面;/n第1线圈导体,沿着所述第1基材的主面形成,具有第1区域;/n由绝缘体构成的第2基材,具有主面;/n第2线圈导体,沿着所述第2基材的主面形成,具有第2区域;/n第1供电端子,形成在所述第2基材的主面,并与所述第2线圈导体的第1端连接;以及/n第2供电端子,形成在所述第2基材的主面,并与所述第2线圈导体的第2端连接,/n在相对于所述第1基材的主面垂直的方向上观察,所述第1区域以及所述第2区域配置为相互全部重叠,且所述第1区域中的所述第1线圈导体的电流路径和所述第2区域中的所述第2线圈导体的电流路径平行,/n所述第1线圈导体的主要的材质为铝,/n所述第2线圈导体的主要的材质为铜。/n
【技术特征摘要】
20190513 JP 2019-090493;20200217 JP 2020-0245581.一种天线装置,其特征在于,具备:
由绝缘体构成的第1基材,具有主面;
第1线圈导体,沿着所述第1基材的主面形成,具有第1区域;
由绝缘体构成的第2基材,具有主面;
第2线圈导体,沿着所述第2基材的主面形成,具有第2区域;
第1供电端子,形成在所述第2基材的主面,并与所述第2线圈导体的第1端连接;以及
第2供电端子,形成在所述第2基材的主面,并与所述第2线圈导体的第2端连接,
在相对于所述第1基材的主面垂直的方向上观察,所述第1区域以及所述第2区域配置为相互全部重叠,且所述第1区域中的所述第1线圈导体的电流路径和所述第2区域中的所述第2线圈导体的电流路径平行,
所述第1线圈导体的主要的材质为铝,
所述第2线圈导体的主要的材质为铜。
2.根据权利要求1所述的天线装置,其特征在于,
所述第1基材的主要的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯,
所述第2基材的主要的材质为聚酰亚胺。
3.根据权利要求1或2所述的天线装置,其特征在于,
在所述垂直的方向上观察,所述第2区域的与电流路径方向垂直的方向的宽度大于所述第1区域的与电流路径方向垂直的宽度。
4.根据权利要求1或2所述的天线装置,其特征在于,
所述第1线圈导体的所述第1区域中的路径长度为所述第1线圈导体的整体的路径长度的一半以下,
所述第2线圈导体的所述第2区域中的路径长度为所述第2线圈导体的整体的路径长度的一半以下。
5.根据权利要求1或2所述的天线装置,其特征在于,
所述第2线圈导体的线圈开口小于所述第1线圈导体的线圈开口,且在所述垂直的方向上观察,不与所述第1线圈导体的线圈开口重叠。
6.根据权利要求1或2所述的天线装置,其特征在于,
具备:电容形成用导体图案,沿着所述第1基材的主面形成,并与所述第1线圈导体连接,
通过由所述第1线圈导体形成的电感和由所述电容形成用导体图案形成的电容构成了谐振电路。
7.根据权利要求6所述的天线装置,其特征在于,
在所述垂直的方向上观察,所述电容形成用导体图案配置在夹着所述第1线圈导体的线圈开口而与所述第1区域对置的位置。
8.根据权利要求6所述的天线装置,其特征在于,
所述第1基材具有相互对置的第1主面以及第2主面,
所述第1线圈导体沿着所述第1基材的第1主面形成,
所述电容形成用导体图案由第1主面侧电容形成用导体图案和第2主面侧电容形成用导体图案构成,该第1主面侧电容形成用导体图案形成在所述第1基材的第1主面,该第2主面侧电容形成用导体图案形成在所述第1基材的第2主面,
所述第1主面侧电容形成用导体图案与所述第1线圈导体的两端分别连接,
所述第2主面侧电容形成用导体图案隔着所述第1基材而与所述第1主面侧电容形成用导体图案对置,在与所述第1主面侧电容形成用导体图案之间形成电容,
所述第1线圈导体以及所述第1主面侧电容形成用导体图案的...
【专利技术属性】
技术研发人员:田村诚道,伊藤宏充,
申请(专利权)人:株式会社村田制作所,
类型:新型
国别省市:日本;JP
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