【技术实现步骤摘要】
成像系统及成像镜头参数的确定方法
本专利技术涉及光斑对准
，具体涉及一种成像系统及成像镜头参数的确定方法。
技术介绍
为了保证曝光图形的准确度，需要将光源照射至曝光芯片上的目标光斑与该曝光芯片进行对准，保证目标光斑将曝光芯片覆盖。图1是曝光芯片的工作场景示意图，如图1所示，光源10发出的光线经过成像镜头组件30以及反射组件40后，投射至所述曝光芯片表面，形成目标光斑，所述目标光斑经所述曝光芯片反射后经过其他光学镜头例如投影物镜以及倍率调节镜头等，在曝光面上产生曝光图形。为了保证曝光图形的准确性以及完整性，一般需要所述目标光斑的尺寸与所述曝光芯片匹配。现有技术中，由于所述曝光芯片在装机后，处于完全密闭的环境且设备上的调整空间比较小，导致无法直接观察到照射至所述曝光芯片上的所述目标光斑，因此无法直接对投射至所述曝光芯片上的所述目标光斑的尺寸进行调整，只能通过观察曝光面上形成的反射光斑，对所述目标光斑进行调节，然而，专利技术人发现，通过此方法调节时，不仅涉及到所述其他光学镜头、曝光芯片，还涉及到所述成像镜头组件30、...
【技术保护点】
1.一种成像系统，其特征在于，包括：/n光源以及投影面，所述投影面上具有度量尺寸；/n成像镜头组件，形成在所述光源与所述投影面之间的光路上，所述光源发出的光经过所述成像镜头组件后在所述投影面上形成目标光斑；/n调节组件，与所述成像镜头组件连接，所述调节组件用于基于所述目标光斑与度量尺寸调节所述成像镜头组件的参数使得所述度量尺寸与所述目标光斑匹配，以确定所述成像镜头组件的参数；其中，所述参数包括所述成像镜头组件内透镜之间的距离，或所述成像镜头组件与所述光源之间的距离。/n
【技术特征摘要】
1.一种成像系统，其特征在于，包括：
光源以及投影面，所述投影面上具有度量尺寸；
成像镜头组件，形成在所述光源与所述投影面之间的光路上，所述光源发出的光经过所述成像镜头组件后在所述投影面上形成目标光斑；
调节组件，与所述成像镜头组件连接，所述调节组件用于基于所述目标光斑与度量尺寸调节所述成像镜头组件的参数使得所述度量尺寸与所述目标光斑匹配，以确定所述成像镜头组件的参数；其中，所述参数包括所述成像镜头组件内透镜之间的距离，或所述成像镜头组件与所述光源之间的距离。
2.根据权利要求1所述的成像系统，其特征在于，还包括：
反射组件，形成在所述光源与所述投影面之间的光路上，所述光源发出的光经过所述成像镜头组件以及所述反射组件后在所述投影面上形成目标光斑。
3.根据权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述调节组件包括：
图像采集装置，用于采集所述投影面上的所述目标光斑；
调节装置，与所述图像采集装置以及所述成像镜头组件连接，所述调节组件用于基于所述目标光斑与所述度量尺寸调节所述成像镜头组件的参数。
4.根据权利要求3所述的成像系统，其特征在于，所述调节装置包括：
导轨，所述成像镜头组件设置在所述导轨上；
控制器，与所述图像采集装置连接，用于基于所述目标光斑与所述度量尺寸形成控制指令发送至调节件；
所述调节件，与所述成像镜头组件连接，用于基于所述控制指令调节所述成像镜头组件的参数；
测量件，用于测量所述成像镜头组件的参数。
5.根据权利要求2所述的成像系统，其特征在于，所述反射组件包括：
第一反射镜以及第二反射镜；其中，所述光源发出的光经过所述第一反射镜以及所述第二反射镜投射至所述投影面上。
6.根据权利要求5所述的成像系统，其特征在于，所述成像镜头组件包括：
第一透镜，设置在所述光源与所述第一反射镜之间且靠近所述光源；
第二透镜，设置在所述第一透镜与所述第一反射镜之间；其中，所述调节组件用于调节所述第二透镜与所述第一透镜之间的距离。
7.根据权利要求6所述的成像系统，其特征在于，所述调节组件还用于调节所述第一透镜与所述光源之间的距离，以调节所述目标光斑的清晰度...
【专利技术属性】
技术研发人员：于向前，陈国军，吴景舟，马迪，
申请(专利权)人：江苏迪盛智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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