曝光机的曝光图形的处理方法、装置及曝光机制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种曝光机的曝光图形的处理方法、装置及曝光机，方法包括：对待曝光图形进行分段，得到多个具有预设长度的分段图形，每个分段图形均具有对准标记，预设长度为曝光机的一次曝光长度；若在当前曝光阶段之前不存在上一曝光阶段，则直接对当前曝光阶段的分段图形进行曝光；若在当前曝光阶段之前存在上一曝光阶段，则根据上一曝光阶段的分段图像与当前曝光阶段的分段图形的对准标记，对当前曝光阶段的分段图形进行位置校正，并对校正后的分段图形进行曝光，迭代执行该步骤，直至完成所有分段图形的位置校正及曝光。本发明专利技术在分段加工图像时，后段图形能够与前段图像通过对准标记进行精准对位，从而提高曝光精度，进而保证产品质量。

【技术实现步骤摘要】
曝光机的曝光图形的处理方法、装置及曝光机
本专利技术涉及图形曝光
，尤其是涉及一种曝光机的曝光图形的处理方法、装置及曝光机。
技术介绍
曝光机，如卷对卷直写曝光机是曝光制程的核心装备。卷对卷直写曝光机因不需要菲林片，图形直接转换，减少了工艺流程，缩短了加工周期而备受PCB(PrintedCircuitBoard，印制电路板)加工商的青睐。卷对卷直写曝光机主要适用于整卷软板的图形转移工序。然而，卷对卷直写曝光机一次曝光的料带长度是有限，如果需要曝光的图形超过曝光机本身的一次曝光长度，这时就需要通过多次曝光来完成一个图形的加工，而相邻两次曝光加工过程中，前后两段图形的拼接是否精准对最终的产品质量起到关键作用。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种曝光机的曝光图形的处理方法，该方法在分段加工图像时，后段图形能够与前段图像通过对准标记进行精准对位，从而提高曝光精度，进而保证产品质量。为此，本专利技术的第二个目的在于提出一种曝光机的曝光图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光机的曝光图形的处理方法，其特征在于，包括以下步骤：/n对待曝光图形进行分段，得到多个具有预设长度的分段图形，其中，每个所述分段图形均具有对准标记，所述预设长度为所述曝光机在料带上的一次曝光长度；/n在曝光时，若在当前曝光阶段之前不存在上一曝光阶段，则直接对当前曝光阶段的分段图形进行曝光；/n若在当前曝光阶段之前存在上一曝光阶段，则根据上一曝光阶段的分段图像与当前曝光阶段的分段图形的对准标记，对当前曝光阶段的分段图形进行位置校正，并对校正后的分段图形进行曝光，迭代执行该步骤，直至完成所有分段图形的位置校正及曝光。/n

【技术特征摘要】
1.一种曝光机的曝光图形的处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
对待曝光图形进行分段，得到多个具有预设长度的分段图形，其中，每个所述分段图形均具有对准标记，所述预设长度为所述曝光机在料带上的一次曝光长度；
在曝光时，若在当前曝光阶段之前不存在上一曝光阶段，则直接对当前曝光阶段的分段图形进行曝光；
若在当前曝光阶段之前存在上一曝光阶段，则根据上一曝光阶段的分段图像与当前曝光阶段的分段图形的对准标记，对当前曝光阶段的分段图形进行位置校正，并对校正后的分段图形进行曝光，迭代执行该步骤，直至完成所有分段图形的位置校正及曝光。


2.根据权利要求1所述的曝光机的曝光图形的处理方法，其特征在于，所述根据上一曝光阶段的分段图像与当前的分段图形的对准标记，对当前的分段图形进行位置校正，包括：
将当前曝光阶段的分段图形的对准标记与上一曝光阶段的分段图形的对准标记进行对准操作，实现对当前曝光阶段的分段图形的位置校正。


3.根据权利要求1所述的曝光机的曝光图形的处理方法，其特征在于，多个所述分段图形的对准标记所处位置相互对应。


4.根据权利要求1所述的曝光机的曝光图形的处理方法，其特征在于，多个所述分段图形的对准标记的形状一致。


5.根据权利要求4所述的曝光机的曝光图形的处理方法，其特征在于，所述对准标记被配...

【专利技术属性】
技术研发人员：项宗齐，
申请(专利权)人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34