含双示踪基团的聚合物及其制备方法技术

本发明专利技术涉及工业冷却水处理剂及水处理循环处理领域，提出一种含有双示踪基团的聚合物及其制备方法，该聚合物是将含芘三磺酸不饱和荧光单体与马来酸酐、丙烯酸或依康酸、丙烯酰胺或取代丙烯酰胺、含磺酸不饱和单体、非离子单体的混合水溶液在７０～９０℃下共聚反应５～７ｈ，得到侧链含芘三磺酸示踪基团的单示踪共聚物；再在上述单示踪共聚物中加入９－羟基呫吨，在避光、室温条件下搅拌４０～６０ｈ，然后倾入甲醇中沉淀、过滤、精制得到的。该产品由于含有两种结构不同的荧光基团，因此在体系存在荧光背景干扰的情况下，仍然可以通过另一荧光基团检测聚合物的浓度，而且该聚合物在水中的浓度能够通过荧光或分光光度检测迅速精确测定，提高了该聚合物的适用范围。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及工业冷却水处理剂或水汽循环处理领域。具体地说，涉及一种 含有双示踪基团的新型结构的聚合物及其制备方法。
技术介绍
工业循环冷却水中水处理药剂传统的分析手段都是对药剂直接进行分析，一般都比较繁瑣，而Jbft所含的聚合物尚无精确的测量方法。近年来，利用工 业水处理药剂与示踪剂的结合能够快速测量分析工业循环水中的水处理剂。荧 光示踪技术与其他测量技料目比，主要有以下优势灵敏度高，检测下限低， 可选择性好，光语^lt多，可调控性好等。已有专利大部分均釆用将含焚光的 有机物与工业水处理用聚合物混合在一起，加入到工业循环水系统中，通过测量荧光物质的浓度来检测聚合物的含量。示踪型阻祐M剂在具有优良的阻垢 分歉性的同时，还应具有准确的监测功效，达到示踪效果。药剂的质量浓度与 荧光强度成比例，因此可由强度得知药剂含量，此种性能可快速而准确的为自 动加药提^i居。如中国专利CN1125090C,即是将已合成的含有磷酸基、羟 烷酯基、M^^磺酸基团的聚合物和荧光有机酸盐，加入到密闭的容器中加热 升温到卯~ 20(TC进行自转^^应制得。该产品在水中的浓度能够通过荧ibf企 测迅速测定，同时本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含有双示踪基团的聚合物，其特征在于由下述单体组成：　Ａ↓［ｘ］Ｂ↓［ｙ］Ｃ↓［ｍ］Ｄ↓［ｎ］Ｅ↓［ｊ］Ｆ↓［ｋ］　ｘ＋ｙ＋ｍ＋ｎ＋ｊ＋ｋ＝１００　其中Ａ：马来酸、丙烯酸、依康酸；ｘ：２０～８０ｍｏｌ％　Ｂ：丙烯酰胺或取代丙烯酰胺；ｙ：２～２０ｍｏｌ％　Ｃ：含磺酸不饱和单体，如２－丙烯酰胺基－２－甲基丙烷磺酸、烯丙基磺酸及其盐；ｍ：１０～４０ｍｏｌ％　Ｄ：非离子单体，包括不饱和羧酸酯，如丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸羟丙酯；聚乙二醇单甲醚甲基丙烯酸酯；烯丙基甘油醚、聚氧乙烯醚不饱和单体；ｎ：５～２０ｍｏｌ％　Ｅ：荧光单体：８－４－乙烯基苄氧基－１，３，６－芘三磺酸或８－丁烯酸酰氧基－１，...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴林华，赵荣明，陈志龙，
申请(专利权)人：江苏江海化工集团有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]