屏下指纹识别设备与屏下指纹识别方法技术

本申请提供了一种屏下指纹识别设备与屏下指纹识别方法，屏下指纹识别设备包括透明盖板；发光器件，位于透明盖板的一侧；微透镜阵列，位于发光器件的远离透明盖板的一侧，微透镜阵列包括多个依次排列的微透镜；CMOS芯片，位于微透镜阵列的远离发光器件的一侧，且位于微透镜阵列的像方焦平面处，微透镜阵列将指纹反射的光成像在CMOS芯片上。屏下指纹识别设备采用微透镜阵列代替单个大透镜成像，能够降低设备的整体厚度，实现设备的薄型化，同时该设备结构简单，有效的节省了成本。

【技术实现步骤摘要】
屏下指纹识别设备与屏下指纹识别方法
本申请涉及光学领域，具体而言，涉及一种屏下指纹识别设备、屏下指纹识别方法、屏下指纹识别装置以及电子设备。
技术介绍
目前行业内实现屏下指纹识别的光学方法主要有两种，即准直层方法和摄像模组方法。准直层法是通过光源发出的光透过玻璃盖板照射在指纹上，指纹再将光反射，经过准直后打在感光芯片上，可得出二维指纹图像。但准直层法需要的准直光角度很小，通常在3°以内，这样的能量利用率较低，信噪比很低，且准直层方案的整体厚度较大。摄像模组法则是通过屏下摄像头来实现。光线通过光圈均匀照射到手指后，聚焦到图像传感器上，进而进行比对，实现指纹识别。采用摄像模组法，装置的结构复杂，厚度较大，难以实现薄型化。因此，亟需一种能够解决现有技术中厚度较大的问题的屏下指纹识别装置。在
技术介绍
部分中公开的以上信息只是用来加强对本文所描述技术的
技术介绍
的理解，因此，
技术介绍
中可能包含某些信息，这些信息对于本领域技术人员来说并未形成在本国已知的现有技术。
技术实现思路
本申请的主要目的在于提供一种屏下指纹识别设备、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种屏下指纹识别设备，其特征在于，包括：/n透明盖板；/n发光器件，位于透明盖板的一侧；/n微透镜阵列，位于所述发光器件的远离所述透明盖板的一侧，所述微透镜阵列包括多个依次排列的微透镜；/nCMOS芯片，位于所述微透镜阵列的远离所述发光器件的一侧，且位于所述微透镜阵列的像方焦平面处，所述微透镜阵列将指纹反射的光成像在所述CMOS芯片上。/n

【技术特征摘要】
1.一种屏下指纹识别设备，其特征在于，包括：
透明盖板；
发光器件，位于透明盖板的一侧；
微透镜阵列，位于所述发光器件的远离所述透明盖板的一侧，所述微透镜阵列包括多个依次排列的微透镜；
CMOS芯片，位于所述微透镜阵列的远离所述发光器件的一侧，且位于所述微透镜阵列的像方焦平面处，所述微透镜阵列将指纹反射的光成像在所述CMOS芯片上。


2.根据权利要求1所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述微透镜阵列包括：
基材层，位于所述发光器件的远离所述透明盖板的一侧；
多个微透镜，位于所述基材层的表面上，且多个所述微透镜沿第一方向依次排列，所述第一方向与所述微透镜的厚度方向垂直。


3.根据权利要求2所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述微透镜在所述第一方向上的宽度在10～100μm之间，所述微透镜在第二方向上的宽度在10～100μm之间，所述第二方向、所述第一方向以及所述微透镜的厚度方向中任意两个相互垂直，所述微透镜的最大厚度在3～30μm之间。


4.根据权利要求3所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述微透镜的远离所述CMOS芯片的表面包括平面和/或曲面。


5.根据权利要求3所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述微透镜的远离所述CMOS芯片的表面由一个曲面形成。


6.根据权利要求1所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述CMOS芯片包括多个依次排列的成像单元，所述成像单元在第一方向上的像素宽度在0.5～50μm之间，所述成像单元在第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：明玉生，陈翔宇，曹雪峰，孙理斌，汪杰，陈远，
申请(专利权)人：宁波舜宇奥来技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33