一种钛化物膜层退镀液及退镀方法技术

本发明专利技术公开了一种钛化物膜层退镀液及退镀方法，涉及含钛化合物。本发明专利技术公开的钛化物膜层退镀液包含有机络合剂和氟化物，所述有机络合剂的浓度为80‑100g/L，氟化物的质量百分数为5‑8％。将钛化物镀件放置于所述退镀液中，以25‑40kW的功率，在35‑60℃下超声处理1‑10min即可去除钛化物膜层，并且可保持基材表面光滑无损伤，退镀液的配制及退镀过程简单，可快速去除钛化物膜层，适于工业化应用。

【技术实现步骤摘要】
一种钛化物膜层退镀液及退镀方法
本专利技术涉及含钛化合物，尤其涉及一种钛化物膜层退镀液及退镀方法。
技术介绍
钛化物镀层分两种，一种是碳化钛(TiC)，具有金属光泽的铁灰色晶体，属于立方晶系，在晶格位置上碳原子与钛原子是等价的，TiC原子间以很强的共价键结合，具有类似金属的若干特性，如高的熔点、沸点和硬度，硬度仅次于金刚石，有良好的导热和导电性，在温度极低时甚至表现出超导性。晶体的结构决定了碳化钛具有高硬度、高熔点、耐磨损以及导电性等基本特征。碳化钛不溶于水，具有很高的化学稳定性，与盐酸、硫酸几乎不发生化学反应。另一种是氮化钛(TiN)，具有典型的NaCl型结构，属面心立方点阵。TiN粉末一般呈黄褐色，超细TiN粉末呈黑色，而TiN晶体呈金黄色。TiN熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高，而密度却比大多数金属氮化物低，因此是一种很有特色的耐热材料。TiN的晶体结构与TiC的晶体结构相似，只是将其中的C原子置换成N原子。氮化钛(TiN)是相当稳定的化合物，在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应，TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和碱性渣本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种钛化物膜层退镀液，其特征在于，包含有机络合剂和氟化物。/n

【技术特征摘要】
1.一种钛化物膜层退镀液，其特征在于，包含有机络合剂和氟化物。


2.如权利要求1所述的钛化物膜层退镀液，其特征在于，所述有机络合剂包含乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠和乙二胺四乙酸四钠中的至少一种；所述氟化物包含氟化氢和氟化氢铵中的一种或两种。


3.如权利要求2所述的钛化物膜层退镀液，其特征在于，所述有机络合剂在退镀液中的浓度为80-100g/L；所述氟化物在所述退镀液中的质量百分数为5-8％。


4.如权利要求3所述的钛化物膜层退镀液，其特征在于，所述有机络合剂为乙二胺四乙酸；所述氟化物为氟化氢；所述有机络合剂在退镀液中的浓度为100g/L，所述氟化物在退镀液中的质量百分数为8％。


5.如权利要求1～4任一项所述的钛化物膜层退镀液，其特征在于，所述钛化物包含氮化钛和碳化钛中的至少一种。

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【专利技术属性】
技术研发人员：黄颖，陈迪云，解庆林，张庆，
申请(专利权)人：桂林理工大学，
类型：发明
国别省市：广西;45