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本发明公开了一种钛化物膜层退镀液及退镀方法，涉及含钛化合物。本发明公开的钛化物膜层退镀液包含有机络合剂和氟化物，所述有机络合剂的浓度为80‑100g/L，氟化物的质量百分数为5‑8％。将钛化物镀件放置于所述退镀液中，以25‑40kW的功率，...
该专利属于桂林理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过桂林理工大学授权不得商用。

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