含银金属膜用蚀刻液组合物制造技术

本发明专利技术提供含银金属膜用蚀刻液组合物，包含硝酸、聚磺酸、有机酸及水。根据本发明专利技术的蚀刻液组合物包含硝酸、聚磺酸、有机酸及水，对于用作显示设备的反射板或配线的含银(Ag)或银合金金属膜，抑制下部膜受损，并且在形成微细配线时，能够最小化不良偏差及碎屑或析出物的出现，能够表现出优异的蚀刻特性。

【技术实现步骤摘要】
含银金属膜用蚀刻液组合物
本专利技术涉及一种含银金属膜用蚀刻液组合物，更详细地涉及一种蚀刻液组合物，其在蚀刻含银金属膜时，能够抑制下部膜的损伤、碎屑及过度蚀刻的发生。
技术介绍
通常，显示面板包括形成有薄膜晶体管作为用于驱动像素的开关元件的显示基板。所述显示基板包括多个金属图案，所述金属图案主要通过光刻(photolithography)方式形成。所述光刻方式是一种如下所述的工艺：在形成于基板上且作为蚀刻对象的金属膜上形成光刻胶膜，对所述光刻胶膜进行曝光及显影，形成光刻图案后，将所述光刻图案用作防蚀刻膜并用蚀刻液蚀刻所述金属膜，从而能够对所述金属膜进行构图。在用于所述金属膜构图的蚀刻工艺中，因光刻图案暴露的区域被蚀刻液去除，并且暴露经去除的金属膜的下部膜。此时，暴露的所述下部膜可能会与所述蚀刻液接触而损坏。当作为所述蚀刻对象的金属膜为用作显示设备(display)的反射板或配线的含银(Ag)或银合金金属膜时，为了对此进行蚀刻，主要使用基于磷酸、硝酸和乙酸的湿蚀刻液(参照韩国授权专利第10-0579421号)。然而，所述湿本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含银或银合金金属膜用蚀刻液组合物，其中，/n包含硝酸、聚磺酸、有机酸及水。/n

【技术特征摘要】
20190313 KR 10-2019-00284651.一种含银或银合金金属膜用蚀刻液组合物，其中，
包含硝酸、聚磺酸、有机酸及水。


2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，
所述组合物包含1至20重量份的硝酸、1至40重量份的聚磺酸、1至40重量份的有机酸、及使组合物的整体重量达到100重量份的余量的水。


3.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，
以1:0.1至1:3的质量比包含所述聚磺酸及硝酸。


4.根据权利要求3所述的蚀刻液组合物，其中，
以1:0.5至1:2的质量比包含所述聚磺酸及硝酸。


5.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，
所述聚磺酸是包含两个以上磺酸根作用基团的聚合物。


6.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，
所述聚磺酸是共聚物形式，包含具有下述化学式1至4的结构的单体中的一种以上及可与该单体共聚的单体：
[化学式1]



[化学式2]



[化学式3]



[化学式4]



在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：殷熙天，金益俊，陈闰泰，金希泰，金世训，
申请(专利权)人：易安爱富科技有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR