一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统技术方案

本发明专利技术涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统，其特征在于：包括工艺真空室以及成膜室，其中所述成膜室位于所述工艺真空室的内部，在所述工艺真空室的底部下方设置有载入载出室，所述载入载出室与所述成膜室之间构成连通，所述载入载出室内设置有用于上下片的载台，所述载台连接有升降机构并可在其驱动下沿高度方向自所述载入载出室进出所述内腔成膜室，实现上下片。本发明专利技术的优点是：能够保证成膜工艺时的密闭性，同时避免微小颗粒物掉落至产品上，从而有效保证产品质量；热量散失小，减少再加热所需的时间和效能，从而缩短成膜工艺所需的整体时间，提高经济性；结构简单，合理，且便于后期的检修维护，适于推广。

【技术实现步骤摘要】
一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统
本专利技术涉及薄膜制备
，尤其是一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统。
技术介绍
在利用原子层沉积技术制备薄膜过程中，通常是将待镀膜表面依次暴露在不同的前驱体气体环境中，使前驱体气体与其接触的表面发生表面化学反应。对于表面化学反应后的气相反应产物和未反应的前驱体气体则通过惰性气体进行吹扫，以便于在通入下一种前驱体气体时，待镀膜表面能与该前驱体气体进行发生充分的表面化学反应。原子层沉积工艺作为较为常用镀膜的一种技术手段，其设备一般为双腔机构，分为外腔真空腔以及内腔成膜腔，其中内腔成膜腔是位于外腔真空腔的内部。目前，原子层沉积镀膜机的载入载出室均为水平载入或者载入后下降至成膜室。这种水平上下料方式导致发生内腔成膜腔密封不严并出现漏膜的情况；而水平下方的方式则会产生热量散失大、微小颗粒物容易落到产品上等问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统，通过底部由下至上的上下片方式配合工艺真空室和成膜室的内外嵌套结构，使成膜室的密本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统，其特征在于：包括工艺真空室以及成膜室，其中所述成膜室位于所述工艺真空室的内部，在所述工艺真空室的底部下方设置有载入载出室，所述载入载出室与所述成膜室之间构成连通，所述载入载出室内设置有用于上下片的载台，所述载台连接有升降机构并可在其驱动下沿高度方向自所述载入载出室进出所述内腔成膜室，实现上下片。/n

【技术特征摘要】
1.一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统，其特征在于：包括工艺真空室以及成膜室，其中所述成膜室位于所述工艺真空室的内部，在所述工艺真空室的底部下方设置有载入载出室，所述载入载出室与所述成膜室之间构成连通，所述载入载出室内设置有用于上下片的载台，所述载台连接有升降机构并可在其驱动下沿高度方向自所述载入载出室进出所述内腔成膜室，实现上下片。


2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统，其特征在于：所述成膜室的顶部设置有浮动机构，所述浮动机构可使所述成膜室在所述载台的驱动作用下在所述工艺真空室内上下浮动。


3.根据权利要求2所述的一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统，其特征在于：所述浮动机构包括支架和弹簧，所述支架安装在所述工艺真空室内且其通过螺栓与所述成膜室顶部的安装板相连接，所述弹簧套设在所述螺栓上，使所述安装板可通过所述弹簧在所述螺栓上相较于所述支架上下浮动。


4.根据权利要求1所述的一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统，其特征在于：所述载入载出室与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔国东，戴秀海，余海春，魏晓庆，董黄华，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31