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本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统，其特征在于：包括工艺真空室以及成膜室，其中所述成膜室位于所述工艺真空室的内部，在所述工艺真空室的底部下方设置有载入载出室，所述载入载出室与所述成膜室之间构成连通，所述载入...
该专利属于光驰科技(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰科技(上海)有限公司授权不得商用。

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