一种在复杂零件表面制备薄膜的方法技术

技术编号:26162764 阅读:39 留言:0更新日期:2020-10-31 12:54
本发明专利技术涉及一种在复杂零件表面制备薄膜的方法,包括如下步骤:(1)将零件放置于反应腔内;(2)根据零件沉积薄膜组成成分,开始沉积第一个前驱体;(3)当第一个前驱体沉积结束,向真空腔内通过气体净化真空腔;(4)沉积第二个前驱体,然后再通过气体净化反应腔,依次类推;(5)最后在零件表面沉积所需要的薄膜厚度。该方法制备的薄膜具有保型性高、洁净度高的特点。该方法主要是将零件置于反应腔内,按薄膜膜层成分依次准备沉积前驱体,使得零件表面制备一层层膜层。本发明专利技术可在复杂零件的任何地方沉积薄膜,不存在沉积盲区。

【技术实现步骤摘要】
一种在复杂零件表面制备薄膜的方法
本专利技术属于纳米
,主要是在复杂零件表面制备功能性涂层。
技术介绍
目前,随着各行业设备的快速发展,组成设备的零件越来越复杂,对于零件的功能性要求越来越严格。目前,零件的机械结构越来越复杂,零件表面通常要求耐腐蚀性、耐磨损性,以在半导体设备的零件表面制备耐腐蚀性涂层为例,现在在零件表面制备薄膜涂层的方法主要有CVD和PVD两种,可传统的CVD和PVD的沉积方法越来越难满足零件的保形问题。这就造成了在零件表面制备耐腐性涂层后,零件的尺寸精度发生变化,会影响零件之间的装配问题以及零件的其他功能。为了解决这一问题,提高零件的保形性问题,现开发一种在复杂零件表面制备薄膜的方法,用该方法,无论在多复杂的零件表面都可以沉积均匀的涂层,同时,还具有很高的保形性,且在涂层制备过程中,不产生其他颗粒杂质,保证涂层具有一定的洁净度。
技术实现思路
本专利技术的目的是在复杂零件表面制备均匀、保形性高的薄膜,主要是将零件放置于反应腔内,按照所需涂层的组分依次向反应腔内通入前驱体,前驱体依次与上一次的基体发生本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种在复杂零件表面制备薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:/n(1)将零件放置于反应腔内;/n(2)根据零件沉积薄膜组成成分,开始沉积第一个前驱体;/n(3)当第一个前驱体沉积结束,向真空腔内通过气体净化真空腔;/n(4)沉积第二个前驱体,然后再通过气体净化反应腔,依次类推;/n(5)最后在零件表面沉积所需要的薄膜厚度。/n

【技术特征摘要】
1.一种在复杂零件表面制备薄膜的方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将零件放置于反应腔内;
(2)根据零件沉积薄膜组成成分,开始沉积第一个前驱体;
(3)当第一个前驱体沉积结束,向真空腔内通过气体净化真空腔;
(4)沉积第二个前驱体,然后再通过气体净化反应腔,依次类推;
(5)最后在零件表面沉积所需要的薄膜厚度。


2.如权利要求1所述的一种在复杂零件表面制备薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(1)中,复杂零件放置于反应腔内,尽量保证零件与零件的支架接触面积小。


3.如权利要求1所述的一种在复杂零件表面制备薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(2)中,根据薄膜组分,开始沉积第一个前驱体,该前驱体的可以有多种选择。


4.如权利要求1所述的一种在复杂零件表面制备薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(3)中,...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐俊阳李加徐宏岩安朋娜
申请(专利权)人:沈阳富创精密设备有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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