一种掩膜组件、蒸镀装置及OLED优化方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及蒸镀工艺领域，公开一种掩膜组件、蒸镀装置及OLED优化方法。所述掩膜组件包括承载盘、挡片和驱动组件，承载盘用于放置基片，承载盘上设置有开口，开口用于将基片的待沉积区域露出，挡片用于遮挡开口，驱动组件与挡片连接，用于带动挡片按照预设动作或操作指令将基片露出，以使待沉积材料在基片的露出区域沉积成膜。所述蒸镀装置包括上述的掩膜组件。所述OLED优化方法采用上述的掩膜组件。本发明专利技术可以连续获得多个厚度的OLED器件，操作简单方便，无需反复切换掩膜板，可以一次性实现多个不同OLED膜层厚度的试验条件验证，能够高效快速地优化OLED膜层的厚度尺寸，方便快速确定最佳试验条件，减少试验所需时间。

A mask module, evaporation device and OLED optimization method

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜组件、蒸镀装置及OLED优化方法
本专利技术涉及蒸镀工艺领域，尤其涉及一种掩膜组件、蒸镀装置及OLED优化方法。
技术介绍
在制造显示器件的过程中，通常通过蒸镀工艺将蒸镀材料(例如有机发光材料)蒸镀到基板上。在蒸镀工艺中，需要用加热源把蒸镀材料加热，然后将加热后的蒸镀材料蒸镀到基板上的预定位置。在采用蒸镀方法形成有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示器件过程中，存在蒸镀有机材料、蒸镀金属材料以及非蒸镀状态三种状态，这三种状态需要交替变换，因此，就需要更换不同的掩膜板。在目前的蒸镀工艺中，实验用圆盘式蒸镀设备受限于蒸镀架的空间尺寸限制，可以更换的掩膜板图案有限，导致试验条件有限，变换多个OLED膜层的厚度时，需要反复切换掩膜板实现，每次切换掩膜板时需要关闭挡板，提升基片架，调取所需掩膜板等多个动作，不能高效快速地优化OLED膜层的厚度尺寸。
技术实现思路
基于以上问题，本专利技术的目的在于提供一种掩膜组件及蒸镀装置，操作方便，能够同时进行多个试验条件的验证。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜组件，其特征在于，包括：/n承载盘，用于放置基片，所述承载盘上设置有开口，所述开口用于将所述基片的待沉积区域露出；/n挡片，用于遮挡所述开口；/n驱动组件，与所述挡片连接，用于带动所述挡片按照预设动作或操作指令将所述基片露出，以使待沉积材料在所述基片的露出区域沉积成膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜组件，其特征在于，包括：
承载盘，用于放置基片，所述承载盘上设置有开口，所述开口用于将所述基片的待沉积区域露出；
挡片，用于遮挡所述开口；
驱动组件，与所述挡片连接，用于带动所述挡片按照预设动作或操作指令将所述基片露出，以使待沉积材料在所述基片的露出区域沉积成膜。


2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述驱动组件能够带动所述挡片平动，以逐渐露出所述开口。


3.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述驱动组件能够带动所述挡片转动，以逐渐露出所述开口。


4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述挡片和所述开口均为扇形。


5.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述开口包括平行设置且相互独立的第一开口和第二开口，所述待沉积区域包括相邻的器件功能区和厚度校准区，所述器件功能区与所述第一开口配合，所述厚度校准区与所述第二开口配合。


6.一种蒸镀装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的掩膜组件，还包括真空腔体和蒸镀源，所述掩膜组件和所述蒸镀源均位于所述真空腔体内。


7.一种OLED优化方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：王江南，张亮，张川，徐蒙蒙，史晓波，冯敏强，廖良生，
申请(专利权)人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32