一种蒸镀遮罩结构和蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法技术

本发明专利技术涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种蒸镀遮罩结构和蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，包括金属掩膜板，金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设有可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，有机物层分别与金属掩膜板和有机薄膜层接触，外设的玻璃基板位于蒸镀薄膜层的上方，外设的蒸发源位于金属掩膜板的下方，通过在金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设置可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，这样使得能够使用激光剥离装置对金属掩膜板上的有机物层进行剥离，得到一个全新干净的金属掩膜板，再通过涂布机重新涂布有机物层，进行重复利用，免去清洗的步骤，提高了工业效率，为企业节省开支。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀遮罩结构和蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法
本专利技术涉及蒸镀
，特别涉及一种蒸镀遮罩结构和蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法。
技术介绍
有机发光二极管(英文全称为OrganicLightEmittingDiode，缩写为OLED)显示器具备低功耗、宽视角、响应速度快、超轻期薄和抗震性好等特点，在高性能的显示区域，作为自主发光的器件发展越来越迅速；目前采用蒸镀方式制备OLED器件，在蒸镀成膜过程中，真空腔体内加热有机小分子(有机蒸镀材料)，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，透过金属掩膜板的镂空区域沉积在玻璃基板上，这种金属掩膜板多采用Invar合金制作，具有精细、脆弱和超薄等特点，经过一段时间的蒸镀，金属掩膜板上面的有机材料累积的越来越厚，有机薄膜有脱落的风险，需要定期清洗。目前金属掩膜板清洗工艺普遍采用湿式药液浸泡清洗，清洗后的药液采取直接排放污染环境，清洗效率低且价格昂贵；现有的蒸镀技术，金属掩膜板随着沉积薄膜时间越来越长，一定程度需要拆卸送外定期清洗，此清洗过程浪费人力，清洗效率低，清洗后的药液容易污染环境。专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀遮罩结构，其特征在于，包括金属掩膜板，所述金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设有可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，所述有机物层分别与金属掩膜板和有机薄膜层接触，外设的玻璃基板位于蒸镀薄膜层的上方，外设的蒸发源位于金属掩膜板的下方。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀遮罩结构，其特征在于，包括金属掩膜板，所述金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上依次层叠设有可剥离的有机物层和蒸镀薄膜层，所述有机物层分别与金属掩膜板和有机薄膜层接触，外设的玻璃基板位于蒸镀薄膜层的上方，外设的蒸发源位于金属掩膜板的下方。


2.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩结构，其特征在于，所述有机物层的厚度为2μm-4μm。


3.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩结构，其特征在于，所述有机物层的材质为聚酰亚胺。


4.根据权利要求1所述的蒸镀遮罩结构，其特征在于，所述蒸镀薄膜层的厚度为2μm-3μm。


5.一种蒸镀遮罩结构免清洗的工艺方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、提供一金属掩膜板；
S2、形成可剥离的有机物层，且覆盖在所述金属掩膜板的非镂空区域的一侧面上；
S3、形成蒸镀薄膜层，且覆盖在所述有机物层远离金属掩膜板的一侧面上；
S4、将所述蒸镀薄膜层与有机物层分离，得到第一蒸镀掩膜结构；所...

【专利技术属性】
技术研发人员：温质康，林佳龙，乔小平，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35