掩膜版和蒸镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种掩膜版和蒸镀装置。本申请实施例提供的掩膜版，掩膜版本体，包括图案蒸镀区，所述图案蒸镀区内设置有多个蒸镀开口；抗拉膨胀部，在所述图案蒸镀区周侧分布，在垂直于拉应力方向上所述抗拉膨胀部的形变方向与所述掩膜版本体的形变方向相反，所述抗拉膨胀部与所述掩膜版本体间存在相互作用力。本申请实施例提供的掩膜版通过抗拉膨胀部的设置避免在张网过程中褶皱的形成，提高掩膜版与显示基板贴合时的相对位置精度，避免蒸镀后显示面板点亮时出现局部Mura及明显的条纹，提高显示效果。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版和蒸镀装置
本专利技术涉及掩膜版
，尤其涉及一种掩膜版和蒸镀装置。
技术介绍
现有技术中OLED(OrganicLight-EmittingDiode)面板具有自发光、响应速度快、对比度更高以及超薄可卷曲等优势，因此现在OLED面板越来越多被用到具有显示装置的产品如手机、穿戴产品中。目前制备OLED面板时，在蒸镀过程中多使用掩膜版将材料蒸镀至显示基板指定位置。其中在蒸镀过程中需要对掩膜版进行张网操作，在张网过程中掩膜版由于两侧受拉伸，使得掩膜版在垂直于拉伸方向发生收缩形变，产生挤压失稳，从而掩膜版在垂直于掩膜版拉伸方向产生褶皱。在蒸镀贴合掩膜版与显示基板的过程中，掩膜版上张网过程中产生的褶皱无法摊平，导致OLED面板出现像素阴影及PPA(PixelPositionAccuracy,像素位置精确度)较差问题，其中像素阴影又称像素shadow，指蒸镀过程中由于掩膜版产生褶皱导致与显示基板间存在空隙，在每一像素开口边缘内外侧形成蒸镀膜厚减薄区。当存在褶皱的金属掩模版用于蒸镀后，OLED面板点亮时存在局部Mura(Mura是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：/n掩膜版本体，包括图案蒸镀区，所述图案蒸镀区内设置有多个蒸镀开口；/n抗拉膨胀部，在所述图案蒸镀区周侧分布，在垂直于拉应力方向上所述抗拉膨胀部的形变方向与所述掩膜版本体的形变方向相反，所述抗拉膨胀部与所述掩膜版本体间存在相互作用力。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：
掩膜版本体，包括图案蒸镀区，所述图案蒸镀区内设置有多个蒸镀开口；
抗拉膨胀部，在所述图案蒸镀区周侧分布，在垂直于拉应力方向上所述抗拉膨胀部的形变方向与所述掩膜版本体的形变方向相反，所述抗拉膨胀部与所述掩膜版本体间存在相互作用力。


2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版在所述拉应力方向上具有中心轴线，所述抗拉膨胀部以所述中心轴线为对称轴对称分布。


3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述图案蒸镀区的个数为多个，在所述掩膜版本体呈阵列分布；
所述抗拉膨胀部包括多个抗拉膨胀单元，设置于所述图案蒸镀区外周侧。


4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述图案蒸镀区的个数为多个，在所述掩膜版本体呈阵列分布；
所述抗拉膨胀部环绕各所述图案蒸镀区连续呈一体分布。


5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述抗拉膨胀部层叠设置于所述掩膜版本体至少一侧表面；或，
所述抗拉膨胀部与所述图案蒸...

【专利技术属性】
技术研发人员：付佳，李金库，李文星，范柳彬，刘玉轩，姜正文，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32