一种大图型花式反光图案上胶装置和上胶方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种大图型花式反光图案上胶装置，包括上压辊、凹版上胶辊、刮胶刀及用于储存并提供胶水的供胶机构，刮胶刀位于凹版上胶辊一侧，刮胶刀口与凹版上胶辊表面接触，凹版上胶辊表面设有花型图案，凹版上胶辊置于供胶机构内并与供胶机构内的胶水接触；花型图案被分割成若干微型多边形结构凹槽或者由若干微型多边形结构凹槽组合而成，微型多边形结构凹槽之间由微型薄壁阻隔，微型薄壁相互之间彼此连接，花型图案通过微型多边形结构凹槽内部胶水的流平作用填补微型薄壁壁厚形成的间隙以实现花型图案满图式涂胶转移。还公开了上胶方法。用若干微型多边形结构凹槽并在其内部填充微型薄壁，实现胶水的流平，使设计图案能完整的呈现。

【技术实现步骤摘要】
一种大图型花式反光图案上胶装置和上胶方法
本专利技术涉及反光材料生产
，更具体的说涉及一种大图型花式反光图案上胶装置和上胶方法。
技术介绍
现有技术中的反光材料制作工艺中使用的凹版上胶辊是通过腐蚀的方法制作上胶凹坑，因为同一辊面的花型图案有大有小，在腐蚀制辊时，面积大的图案腐蚀的深度深，面积小的图案腐蚀的深度浅。腐蚀深的地方上胶量大，浅的地方上胶量小，反映在产品出现胶层厚度不均匀，从而产生产品质量问题，为保证产品质量，要求在制作时以小图案的深度为基准，这样大图案的深度过深，耗胶量大，产生浪费，同时由于上胶量大，容易产生图案溢胶的问题。原凹版上胶辊上胶凹坑的大小，是由图案大小决定——图案大的上胶凹坑面积也大。由于凹坑面积大，胶辊在上胶凹坑中的变形量大，把上胶凹坑中的胶水挤出凹坑后，产生图案溢胶的问题。图案越大，产品的溢胶问题越严重。所以原凹版上胶对图案的大小有限制，不能生产大花纹的图案。原凹版上胶辊图案中有横向的线段，由于刮胶刀刀口和横向线段重叠，在压力的作用下，刮胶刀刀口变形，伸入横向线段的上胶凹坑中，把上胶凹坑中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大图型花式反光图案上胶装置，包括上压辊（1）、凹版上胶辊（2）、刮胶刀及用于储存并提供胶水的供胶机构，所述的刮胶刀位于凹版上胶辊（2）一侧，刮胶刀口与凹版上胶辊（2）表面接触，所述的凹版上胶辊（2）表面设有花型图案（11），所述的凹版上胶辊（2）置于供胶机构内并与供胶机构内的胶水接触；其特征在于：所述的花型图案（11）被分割成若干微型多边形结构凹槽（5）或者由若干微型多边形结构凹槽（5）组合而成，所述的微型多边形结构凹槽（5）之间由微型薄壁（12）阻隔，所述的微型薄壁（12）相互之间彼此连接，所述的花型图案（11）通过微型多边形结构凹槽（5）内部胶水的流平作用填补微型薄壁（12）壁厚形...

【技术特征摘要】
1.一种大图型花式反光图案上胶装置，包括上压辊（1）、凹版上胶辊（2）、刮胶刀及用于储存并提供胶水的供胶机构，所述的刮胶刀位于凹版上胶辊（2）一侧，刮胶刀口与凹版上胶辊（2）表面接触，所述的凹版上胶辊（2）表面设有花型图案（11），所述的凹版上胶辊（2）置于供胶机构内并与供胶机构内的胶水接触；其特征在于：所述的花型图案（11）被分割成若干微型多边形结构凹槽（5）或者由若干微型多边形结构凹槽（5）组合而成，所述的微型多边形结构凹槽（5）之间由微型薄壁（12）阻隔，所述的微型薄壁（12）相互之间彼此连接，所述的花型图案（11）通过微型多边形结构凹槽（5）内部胶水的流平作用填补微型薄壁（12）壁厚形成的间隙以实现花型图案满图式涂胶转移。


2.根据权利要求1所述的一种大图型花式反光图案上胶装置，其特征在于：所述的微型多边形结构凹槽（5）由三角形、正方形、六边形或八边形凹槽中的一种或多种组合而成。


3.根据权利要求1所述的一种大图型花式反光图案上胶装置，其特征在于：所述的微型多边形结构凹槽（5）深度相同。


4.根据权利要求1所述的一种大图型花式反光图案上胶装置，其特征在于：所述的微型薄壁（12）的壁厚小于等于0.5mm。


5.根据权利要求1至4任意一项所述的一种大图型花式反光图案上胶装...

【专利技术属性】
技术研发人员：王世杰，查伟强，谢炳乃，施威，张国强，
申请(专利权)人：杭州星华反光材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33