射线源的带翼屏蔽体制造技术

本实用新型专利技术属于核技术应用领域，包括设置在射线源狭出束口处两侧的两个对称屏蔽壁，该两个对称屏蔽壁之间构成射线束通道。本实用新型专利技术可使射束通过加速器出束口时，出束口引起的杂散辐射大部分由两个对称屏蔽壁吸收，有用窄束射束射从线束通道通过，不但减少了辐射防护区域的环境剂量，同时，还兼有准直功能。（*该技术在2011年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于核技术应用领域，特别涉及射线源的屏蔽体结构设计。
技术介绍
集装箱射线检查系统是借助高能X、γ射线的强大穿透能力，不需开箱即可看到集装箱内货物的快速检查设备。射线经射线源装置狭出束口的约束，一部分形成系统要求的有用窄束照射源，剩余部分与出束口碰撞形成杂散辐射。这部分杂散辐射对系统的成像没有贡献，却增加了辐射防护区内的环境剂量。
技术介绍
本技术的目的是为克服已有技术的不足之处，提出一种射线源的带翼屏蔽体，使其减少出束口处杂散辐射对辐射防护区的影响，同时可提高射束的准直功能。本技术提出的一种射线源的带翼屏蔽体，其特征在于，包括设置在射线源狭出束口处两侧的两个对称屏蔽壁，该两个对称屏蔽壁之间构成射线束通道。该带翼屏蔽体可由两块对称设置的L形板体构成，其中两竖屏蔽板之间构成射线束通道。该通道的宽度由成像分系统要求决定，尺寸范围为3mm～100mm；两竖屏蔽板厚度、高度、横屏蔽板上、下面长度、厚度根据系统场地屏蔽区域大小来确定，尺寸范围为10mm～1000mm；所说的两横屏蔽板的下面靠内侧部分可为倾斜面。该带翼屏蔽体还可由两块对称倒置的L形板体构成，其中两横屏蔽板端面之间构成射线束通道。该通道的宽度L1由成像分系统要求决定，尺寸范围为3mm～100mm；横屏蔽板上、下面长度、两竖屏蔽板内、外面长度、横屏蔽板和竖屏蔽板的厚度根据系统场地屏蔽区域大小来确定，尺寸范围为10mm～1000mm；该两横屏蔽板的上面可形成台阶状。本技术的带翼屏蔽体的功能如图1所示，来自射线源1的射线3通过加速器口屏蔽体2的出束口5后一部分形成有用窄束射束，剩余部分与出束口碰撞形成杂散辐射。带翼屏蔽体4将出束口处的杂散辐射屏蔽，减少杂散辐射对前方和左右两侧辐射防护区的影响。本技术可使射束通过加速器出束口时，出束口引起的杂散辐射大部分由两个对称屏蔽壁吸收，有用窄束射束射从线束通道通过，不但减少了辐射防护区域的环境剂量，同时，还兼有准直功能。附图说明图1为本技术的功能示意图。图2为本技术的实施例一具体结构示意图。图3为本技术的实施例二具体结构示意图。图4为本技术的实施例三具体结构示意图。图5为本技术的实施例四具体结构示意图。具体实施方式本技术设计出四种射线源的带翼屏蔽体实施例结构如图2-5所示，结合各图分别详细说明如下实施例一，其结构及参数如图2所示，该带翼屏蔽体由两块对称设置的L形板体构成，其中两竖屏蔽板11之间构成射线束通道10。其主要参数为该通道10的宽度L1由成像分系统要求决定，尺寸为10mm；两竖屏蔽板11厚度L2、高度L3、横屏蔽板12上、下面长度L4、L6、厚度L5根据系统场地屏蔽区域大小来确定，尺寸分别为L2＝40mm、L3＝300mm、L4＝210mm、L5＝50mm、L6＝250mm；屏蔽体高度(图中未示出，是指侧视图中L形板体的宽度)应满足可以遮住射线束，尺寸为500mm。实施例二，其结构及参数如图3所示，该带翼屏蔽体结构与实施例一基本相同，由两块对称设置的L形板体构成，其中两竖屏蔽板21之间构成射线束通道20，其不同之处是两横屏蔽板22的下面靠内侧部分为倾斜面221。其主要参数为该通道20的宽度L1由成像分系统要求决定，尺寸为30mm；两竖屏蔽板21厚度L2、高度L3、横屏蔽板22上、下面长度L4、L6、L7厚度L5根据系统场地屏蔽区域大小来确定，尺寸分别为L2＝80mm、L3＝600mm、L4＝450mm、L5＝100mm、L6＝320mm、L7＝300mm；屏蔽体高度(图中未示出，是指侧视图中L形板体的宽度)应满足可以遮住射线束，尺寸范围为750mm。实施例三，其结构及参数如图4所示，该带翼屏蔽体由两块对称倒置的L形板体构成，其中两横屏蔽板31端面之间构成射线束通道30，其不同之处是两横屏蔽板31的上面形成台阶状，其主要参数为该通道30的宽度L1由成像分系统要求决定，尺寸为50mm；横屏蔽板31上、下面长度L2、L3、L7、两竖屏蔽板32内、外面长度L4、L6、横屏蔽板31和两竖屏蔽板32的厚度L5根据系统场地屏蔽区域大小来确定，尺寸分别为L2＝80mm、L3＝150mm、L4＝600mm、L5＝90mm、L6＝450mm、L7＝140mm；屏蔽体高度(图中未示出，是指侧视图中倒置的L形板体的宽度)应满足可以遮住射线束，尺寸为1600mm。实施例四，其结构及参数如图5所示，该带翼屏蔽体由两块对称倒置的L形板体构成，其中两横屏蔽板41端面之间构成射线束通道40。其主要参数为该通道40的宽度L1由成像分系统要求决定，尺寸为25mm；横屏蔽板41上、下面长度L2、L6、两竖屏蔽板42内、外面长度L5、L3、横屏蔽板41和两竖屏蔽板42的厚度L4、L7根据系统场地屏蔽区域大小来确定，尺寸分别为L2＝450mm、L3＝650mm、L4＝100mm、L5＝530mm、L6＝350mm、L7＝120mm；屏蔽体高度(图中未示出，是指侧视图中倒置的L形板体的宽度)应满足可以遮住射线束，尺寸范围为300mm。本实施例应用于集装箱检查系统中，出束口附加带翼屏蔽体后，防护区内剂量率有较大幅度的降低，比例从10％～10000％不等。权利要求1.一种射线源的带翼屏蔽体，其特征在于，包括设置在射线源狭出束口处两侧的两个对称屏蔽壁，该两个对称屏蔽壁之间构成射线束通道。2.如权利要求1所述的射线源的带翼屏蔽体，其特征在于，该带翼屏蔽体由两块对称设置的L形板体构成，其中两竖屏蔽板之间构成射线束通道；该通道的宽度的尺寸范围为3mm～100mm；两竖屏蔽板厚度、高度、横屏蔽板上、下面长度、厚度的尺寸范围为10mm～1000mm；屏蔽体高度的尺寸范围为10mm～5000mm。3.如权利要求2所述的射线源的带翼屏蔽体，其特征在于，所说的两横屏蔽板的下面靠内侧部分为倾斜面。4.如权利要求1所述的射线源的带翼屏蔽体，其特征在于，该带翼屏蔽体由两块对称倒置的L形板体构成，其中两横屏蔽板端面之间构成射线束通道；该通道的宽度的尺寸范围为3mm～100mm；该横屏蔽板上、下面长度、两竖屏蔽板内、外面长度、横屏蔽板和竖屏蔽板的厚度的尺寸范围为10mm～1000mm；屏蔽体高度的尺寸范围为10mm～5000mm。5.如权利要求4所述的射线源的带翼屏蔽体，其特征在于，该两横屏蔽板的上面可形成台阶状。专利摘要本技术属于核技术应用领域,包括设置在射线源狭出束口处两侧的两个对称屏蔽壁,该两个对称屏蔽壁之间构成射线束通道。本技术可使射束通过加速器出束口时,出束口引起的杂散辐射大部分由两个对称屏蔽壁吸收,有用窄束射束射从线束通道通过,不但减少了辐射防护区域的环境剂量,同时,还兼有准直功能。文档编号G01N23/02GK2489331SQ0123312公开日2002年5月1日 申请日期2001年8月10日 优先权日2001年8月10日专利技术者康克军, 高文焕, 刘以农, 李君利, 邓艳丽, 王兵, 明申金, 方静 申请人:清华大学, 清华同方核技术股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种射线源的带翼屏蔽体，其特征在于，包括设置在射线源狭出束口处两侧的两个对称屏蔽壁，该两个对称屏蔽壁之间构成射线束通道。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：康克军，高文焕，刘以农，李君利，邓艳丽，王兵，明申金，方静，
申请(专利权)人：清华大学，清华同方威视技术股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]