【技术实现步骤摘要】
一种检测晶圆厚度设备
本技术涉及一种厚度检测设备,特别涉及一种检测晶圆厚度设备。
技术介绍
随着国内芯片的需求量增加,半导体行业越来越受到人们的重视。其中晶圆是制造半导体芯片的基本材料,应用越来越防范,产量越来越大,因此对晶圆产品的精度要求也越来越高。晶圆的精度要求通常要求在微米级,传统检测方式多为人工用显微镜测量,或者用专用测量仪器,效率低,很容易出现误检情况,对人员素质的要求也很高,人为因素造成的误差也比较大,还会对产品造成刮伤、变形、扭曲导致产品报废。随着产能的提升,这一问题日益严重。因此目前需要研发出一种使用方便、检测效率高及检测结果可靠的检测晶圆厚度设备。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供了一种使用方便、检测效率高及检测结果可靠的检测晶圆厚度设备。本技术所采用的技术方案是:本技术包括底板,所述底板上设置有XY运动平台及检测支架,所述XY运动平台上设置有载台,所述检测支架的上下端分别位于所述载台的上下两侧,所述所述检测支架的上下端均设置有至少一个测厚传感器。r>进一步,所述XY本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种检测晶圆厚度设备,其特征在于:其包括底板(1),所述底板(1)上设置有XY运动平台(2)及检测支架(3),所述XY运动平台(2)上设置有载台(4),所述检测支架(3)的上下端分别位于所述载台(4)的上下两侧,所述检测支架(3)的上下端均设置有至少一个测厚传感器(5)。/n
【技术特征摘要】
1.一种检测晶圆厚度设备,其特征在于:其包括底板(1),所述底板(1)上设置有XY运动平台(2)及检测支架(3),所述XY运动平台(2)上设置有载台(4),所述检测支架(3)的上下端分别位于所述载台(4)的上下两侧,所述检测支架(3)的上下端均设置有至少一个测厚传感器(5)。
2.根据权利要求1所述的一种检测晶圆厚度设备,其特征在于:所述XY运动平台(2)包括设置在所述底板(1)上的平台支撑座(6),所述平台支撑座(6)上设置有呈Y向...
【专利技术属性】
技术研发人员:章少华,
申请(专利权)人:深圳市运泰利自动化设备有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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