透明有机发光显示面板、制备方法和显示装置制造方法及图纸

技术编号:26038083 阅读:39 留言:0更新日期:2020-10-23 21:16
本发明专利技术公开了透明有机发光显示面板、制备方法和显示装置。该有机发光显示面板包括:基板,所述基板上具有发光区以及透光区;多个有机发光二极管,所述有机发光二极管位于所述发光区,所述有机发光二极管包括阳极、阴极,以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层,所述阴极和所述发光层自所述发光区延伸至所述透光区,所述阴极和所述发光层之间具有金属缓冲层;拓扑绝缘体层,所述拓扑绝缘体层在所述基板上的正投影位于所述透光区,且所述拓扑绝缘体层位于所述金属缓冲层以及所述发光层之间。该透明有机发光显示面板可利用金属缓冲层缓解阴极工艺对发光层的损伤。

【技术实现步骤摘要】
透明有机发光显示面板、制备方法和显示装置
本专利技术涉及显示领域,具体地,涉及透明有机发光显示面板、制备方法和显示装置。
技术介绍
随着显示技术的发展,透明显示装置吸引了越来越多的关注。目前的透明显示技术多采用基于有机发光二极管(OLED)技术实现的。OLED显示面板具有可实现柔性显示、自发光等优点,可用于制备透明显示装置。但目前基于OLED的透明显示装置仍存透明度较低等问题。具体地,透过率较高的OLED的顶电极(阴极)多采用溅射的方式制备,而溅射工艺会对发光层造成一定损伤。例如,如果采用IZO作为顶电极,则需要在发光层和阴极之间形成金属缓冲层以减小IZO工艺过程中对与发光层的损伤,但金属缓冲层的透过率较低,将营销透明显示面板的整体透过率,导致显示效果下降。而如直接采用对发光层损伤较小的金属/合金电极(如Mg:Ag(2:8))作为顶电极,那么透光区的透过率也将大幅降低。因此,目前的透明有机发光显示面板、制备方法和显示装置仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。在本专利技术的一个方面,本专利技术提出了一种透明有机发光显示面板,该有机发光显示面板包括:基板,所述基板上具有发光区以及透光区;多个有机发光二极管,所述有机发光二极管位于所述发光区,所述有机发光二极管包括阳极、阴极,以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层,所述阴极和所述发光层自所述发光区延伸至所述透光区,所述阴极和所述发光层之间具有金属缓冲层;拓扑绝缘体层,所述拓扑绝缘体层在所述基板上的正投影位于所述透光区,且所述拓扑绝缘体层位于所述金属缓冲层以及所述发光层之间。该透明有机发光显示面板由于具有拓扑绝缘体层,因此可防止金属缓冲层中透过率较低的金属元素在透光区处沉积,从而可以提高该面板在透光区的透过率,并且可利用金属缓冲层缓解阴极工艺对发光层的损伤。根据本专利技术的实施例,所述金属缓冲层包括低透金属,形成所述拓扑绝缘体层的材料包括低透金属-有机拓扑绝缘体。由此,可进一步提高该面板的显示效果。根据本专利技术的实施例,所述低透金属包括Mg,所述金属缓冲层进一步包括高透金属,所述高透金属包括Ag,所述高透金属位于所述金属缓冲层中与所述透光区和所述发光区相对应处,所述低透金属位于所述金属缓冲层中和所述发光区相对应处,所述拓扑绝缘体层包括Mg-DAC。由此,可进一步提高该面板的显示效果。根据本专利技术的实施例,所述透明有机发光显示面板在所述透光区的透过率大于70%。由此,可进一步提高该面板的显示效果。根据本专利技术的实施例,形成所述阴极的材料包括IZO,所述阴极的厚度为100~300nm。由此,可进一步提高该面板的透过率。根据本专利技术的实施例,所述金属缓冲层的厚度为10nm以上。由此,可提高金属缓冲层对发光层的保护效果。在本专利技术的又一方面,本专利技术提出了一种制备透明有机发光显示面板的方法。该方法包括:在基板上形成多个有机发光二极管,所述基板上具有发光区以及透光区所述有机发光二极管位于所述发光区,所述有机发光二极管包括阳极、阴极,以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层,所述阴极和所述发光层自所述发光区延伸至所述透光区,所述阴极和所述发光层之间具有金属缓冲层,其中,在形成所述金属缓冲层之前,预先在所述发光层远离基板的一侧形成拓扑绝缘体层,所述拓扑绝缘体层在所述基板上的正投影位于所述透光区。由此,可简便地获得透明有机发光显示面板。该透明有机发光显示面板可为前述的,因此该方法制备的面板具有前述的面板的全部特征以及优点,在此不再赘述。总的来说,该面板具有透过率高、阴极工艺对发光层损伤较小等优点的至少之一。根据本专利技术的实施例,所述金属缓冲层是通过蒸镀工艺形成的,形成所述金属缓冲层的蒸镀温度为450~600摄氏度;所述拓扑绝缘体层是通过所述蒸镀工艺形成的,形成所述拓扑绝缘体层的蒸镀温度为300~450摄氏度。由此,可进一步提高该方法制备的透明有机发光显示面板的性能。根据本专利技术的实施例,所述方法包括:在所述基板上形成所述发光层;在所述基板的所述透光区通过蒸镀工艺形成所述拓扑绝缘体层,所述拓扑绝缘体层覆盖所述发光层位于所述透光区的部分;通过所述蒸镀工艺形成所述金属缓冲层,所述金属缓冲层覆盖位于所述发光区的所述发光层,以及位于所述透光区的所述拓扑绝缘体层,所述金属缓冲层中含有高透金属和低透金属,位于所述发光区处的所述金属缓冲层中具有所述高透金属和低透金属,位于所述透光区处的所述金属缓冲层中具有所述高透金属;通过溅射工艺,在所述金属缓冲层远离所述基板的一侧形成所述阴极。由此,可进一步提高该方法制备的透明有机发光显示面板的性能。在本专利技术的又一方面,本专利技术提出了一种显示装置。该显示装置包括前面所述的透明有机发光显示面板。由此,该显示装置具有前面所述的透明有机发光显示面板所具有的全部特征以及优点,在此不再赘述。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:图1显示了根据本专利技术一个实施例的透明有机发光显示面板的结构示意图;图2显示了根据本专利技术一个实施例的透明有机发光显示面板的部分结构示意图;图3显示了根据本专利技术一个实施例的透明有机发光显示面板的部分结构示意图;图4显示了根据本专利技术一个实施例的透明有机发光显示面板的结构示意图;图5显示了根据本专利技术一个实施例的透明有机发光显示面板的部分结构示意图;图6显示了根据本专利技术一个实施例的制备透明有机发光显示面板的方法的流程示意图。附图标记说明:1000:透明有机发光显示面板;100:110:发光区;120:透光区;基板;210:阳极;220:发光层;230:金属缓冲层;240:阴极;310:有源层;320:栅极;330:源漏极;340:栅绝缘层;350:第一绝缘层;360:层间绝缘层;370:缓冲层;380:钝化层;400:拓扑绝缘体层;500:封装层;600:色阻层;700:光学胶层;800:保护盖板;10:像素界定结构;20:遮光层;30:辅助阴极;50:黑矩阵。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本专利技术,而不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的一个方面,本专利技术提出了一种透明有机发光显示面板。参考图1,该有机发光显示面板1000包括基板100,基板100上具有发光区110以及透光区120。基板100上具有多个有机发光二极管(图1中仅示出了一个),有机发光二极管位于发光区110,有机发光二极管包括阳极210、阴极240,以及位于阳极210和阴极240之间的发光层220,阴极240和发光层220自发光区110延伸至透光区120,阴极240和发光层220之间具有金属缓冲层230。拓扑绝缘体层400位于金属缓冲层230以及发光层220之间,且在基板1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明有机发光显示面板,其特征在于,包括:/n基板,所述基板上具有发光区以及透光区;/n多个有机发光二极管,所述有机发光二极管位于所述发光区,所述有机发光二极管包括阳极、阴极,以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层,所述阴极和所述发光层自所述发光区延伸至所述透光区,所述阴极和所述发光层之间具有金属缓冲层;/n拓扑绝缘体层,所述拓扑绝缘体层在所述基板上的正投影位于所述透光区,且所述拓扑绝缘体层位于所述金属缓冲层以及所述发光层之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种透明有机发光显示面板,其特征在于,包括:
基板,所述基板上具有发光区以及透光区;
多个有机发光二极管,所述有机发光二极管位于所述发光区,所述有机发光二极管包括阳极、阴极,以及位于所述阳极和所述阴极之间的发光层,所述阴极和所述发光层自所述发光区延伸至所述透光区,所述阴极和所述发光层之间具有金属缓冲层;
拓扑绝缘体层,所述拓扑绝缘体层在所述基板上的正投影位于所述透光区,且所述拓扑绝缘体层位于所述金属缓冲层以及所述发光层之间。


2.根据权利要求1所述的透明有机发光显示面板,其特征在于,所述金属缓冲层包括低透金属,形成所述拓扑绝缘体层的材料包括低透金属-有机拓扑绝缘体。


3.根据权利要求2所述的透明有机发光显示面板,其特征在于,所述低透金属包括Mg,所述金属缓冲层进一步包括高透金属,所述高透金属包括Ag,所述高透金属位于所述金属缓冲层中与所述透光区和所述发光区相对应处,所述低透金属位于所述金属缓冲层中和所述发光区相对应处,所述拓扑绝缘体层包括Mg-DAC。


4.根据权利要求1-3任一项所述的透明有机发光显示面板,其特征在于,所述透明有机发光显示面板在所述透光区的透过率大于70%。


5.根据权利要求4所述的透明有机发光显示面板,其特征在于,形成所述阴极的材料包括IZO,所述阴极的厚度为100~300nm。


6.根据权利要求5所述的透明有机发光显示面板,其特征在于,所述金属缓冲层的厚度为10nm以上。


7.一种制备透明有机发光...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄清雨焦志强陈福栋闫华杰刘文祺
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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