投影掩模及激光照射装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够有效地反射激光并抑制激光的能量的吸收，从而提高耐久性的投影掩模。本发明专利技术的投影掩模配置在被照射激光的投影透镜，并使激光透过，具备：透过层，其供激光透过；反射膜，其折射率比透过层大；金属膜，其对激光进行遮光；以及保护膜，其保护金属膜，透过层、反射膜、金属膜、以及保护膜从相互的层叠方向中的、被照射激光的一侧朝向相反侧依次配置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】投影掩模及激光照射装置
本专利技术涉及投影掩模及激光照射装置。
技术介绍
以往，如专利文献1所示，已知有用于激光退火并通过激光将掩模图案缩小投影到基板面上的投影掩模。在这样的激光退火中，例如通过用激光瞬间加热非晶硅薄膜等基板中的规定的区域，能够使其多晶体化从而形成多晶硅薄膜。先行技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-197679号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题但是，在以往的投影掩模中，由于对掩模图案的遮光部分照射高能量的激光，吸收到的能量变为热量，遮光部分有可能氧化或熔融。本专利技术的目的在于，提供一种能够有效地反射激光并抑制激光的能量的吸收，从而提高耐久性的投影掩模。用于解决技术问题的手段为了解决上述技术课题，本专利技术的投影掩模配置在被照射激光的投影透镜，并使所述激光透过，所述投影掩模具备：透过层，其供所述激光透过；反射膜，其折射率比所述透过层大；金属膜，其对所述激光进行遮光；以及保护膜，其保护所述金属膜，所述透过层、所述反射膜、所述金本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种投影掩模，其配置于被照射激光的投影透镜，并使所述激光透过，其中，所述投影掩模具备：/n透过层，其供所述激光透过；/n反射膜，其折射率比所述透过层大；/n金属膜，其对所述激光进行遮光；以及/n保护膜，其保护所述金属膜，/n所述透过层、所述反射膜、所述金属膜、以及所述保护膜从相互的层叠方向中的、被照射所述激光的一侧朝向相反侧依次配置。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180601 JP 2018-1062741.一种投影掩模，其配置于被照射激光的投影透镜，并使所述激光透过，其中，所述投影掩模具备：
透过层，其供所述激光透过；
反射膜，其折射率比所述透过层大；
金属膜，其对所述激光进行遮光；以及
保护膜，其保护所述金属膜，

【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP