基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够在不对基板造成损伤的情况下提高基板的检测精度的基板处理装置。实施方式的基板处理装置(10)具有：沿着搬送路径(A1)搬送基板(W)的搬送部(30)；利用处理液对由搬送部(30)搬送的基板(W)进行处理的处理部(40)；基板检测部(50)，具有从搬送的基板(W)的下表面侧喷出流体的喷嘴(53a)和检测来自喷嘴(53a)的处理液已到达摆动部(51)的传感器部(52)；以及控制部(60)，基于从基板检测部(50)输出的检测信号检测基板(W)。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术的实施方式涉及基板处理装置。
技术介绍
在液晶显示装置、半导体装置等的制造工序中，使用搬送液晶面板用玻璃或光掩模用玻璃等基板并对移动的基板喷出处理液(例如药液)来处理基板的基板处理装置。在这样的基板处理装置中，具有对沿着搬送路径搬送的基板的有无进行检测的基板检测装置。基板检测装置有接触型和非接触型。接触型的基板检测装置例如有振子型传感器。这是通过被搬送的基板与振子接触而使振子摆动，传感器感知该摆动的类型。非接触型的基板检测装置例如是传感器通过投受光检测基板有无的类型。然而，接触型的基板检测装置由于基板检测装置的一部分与基板接触，因此有时会在基板的前端部分产生裂纹等，对基板造成损伤。另外，非接触型的基板检测装置有时因在基板处理装置内使用的处理液附着而导致光漫反射，从而导致误检测。
技术实现思路
本专利技术的目的在于在不对基板造成损伤的情况下提高基板的检测精度。本专利技术的实施方式的基板处理装置的其特征在于，具有：搬送部，沿着搬送路径搬送基板；<br>处理部，利用处本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，/n具有：/n搬送部，沿着搬送路径搬送基板；/n处理部，利用处理液对由所述搬送部搬送的所述基板进行处理；以及/n基板检测部，对由所述搬送部搬送的所述基板进行检测，/n所述基板检测部具有：从由所述搬送部搬送的所述基板的下表面侧喷出流体的喷出部；和在隔着所述搬送路径与所述喷出部对置的位置检测来自所述喷出部的所述流体的到达的检测部。/n

【技术特征摘要】
20190329 JP 2019-0658191.一种基板处理装置，其特征在于，
具有：
搬送部，沿着搬送路径搬送基板；
处理部，利用处理液对由所述搬送部搬送的所述基板进行处理；以及
基板检测部，对由所述搬送部搬送的所述基板进行检测，
所述基板检测部具有：从由所述搬送部搬送的所述基板的下表面侧喷出流体的喷出部；和在隔着所述搬送路径与所述喷出部对置的位置检测来自所述喷出部的所述流体的到达的检测部。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述流体是与所述处理液相同的处理液。


3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
具备：
回收管，用于回收在所述处理部使用过的处理液；以及
罐，贮存由所述回收管回收的所述处理液，
所述处理部将回收并贮存在所述罐中的所述处理液再次用于所述处理部的处理。


4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述检测部具有摆动部和传感器部，
所述摆动部通过从所述喷出部喷出的流体而摆动，
所述传感器部检测所述摆动部的所述摆动。


5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，
所述摆动部具有摆动板，该摆动板以与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：大森圭悟，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP