一种可快速清洗晶圆片的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种可快速清洗晶圆片的装置，涉及到半导体技术领域。包括洗涤箱外壳，所述洗涤箱外壳的内部设置有洗涤箱内胆，所述洗涤箱内胆的内腔底端设置有支撑圆板，所述支撑圆板的顶端设置有旋转槽，所述支撑圆板的底端设置有设置有支撑杆一和支撑杆二。有益效果：通过一体式设计，紧凑，操作方便；流动式操作，避免产品刮花，有效节约水源；清洗效果彻底，清洗效率高，操作简单。利用清洗槽，将晶圆片放置到清洗槽的内部，利用流动的清水对晶圆片进行冲洗，防止了冲洗的过程中清洗的不彻底，利用清洗槽进行清洗提高了清洗的效率，提高了设备的精细化程度。

【技术实现步骤摘要】
一种可快速清洗晶圆片的装置
本技术涉及半导体
，具体来说，涉及一种可快速清洗晶圆片的装置。
技术介绍
目前，在晶圆片的制造过程中，众所皆知的是，在加工过程中所遗留在晶片表面的不必要残留必须加以清洗。此般的制造操作范例包括有等离子体蚀刻和化学机械抛光法。若不必要的残留物质和微粒在连续的制造操作过程中遗留在晶片的表面，这些残留物质和微粒将会造成如晶片表面刮伤和金属化特征间的不适当的交互作用等瑕疵。在一些案例中，此般瑕疵可能导致晶片上的装置变得无法运作。欲避免由于丢弃具有无法运作的装置的晶片而所造成的额外费用，因此，当在晶片表面上遗留不必要的残余物的制造操作程序之后，必须适当并有效率地清洗晶片。在化学机械抛光工艺后实施的清洗步骤可以是：利用旋转的清洁刷在刷洗机内清洗晶片表面，利用清洁刷的旋转动作和清洁刷施加在晶片的压力，帮助剩余浆料从晶片表面上移除。但是，公知化学机械抛光后晶片清洗设备多是单面刷，清洗工艺复杂，无法达到令人满意的清洁效率，沿着晶片表面的边缘可以看见剩余浆料和大量缺陷，另外，对晶圆片的二次污染也很严重，自动化率也不高。针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
针对相关技术中的问题，本技术提出一种可快速清洗晶圆片的装置，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。本技术的技术方案是这样实现的：一种可快速清洗晶圆片的装置，包括洗涤箱外壳，所述洗涤箱外壳的内部设置有洗涤箱内胆，所述洗涤箱内胆的内腔底端设置有支撑圆板，所述支撑圆板的顶端设置有旋转槽，所述支撑圆板的底端设置有设置有支撑杆一和支撑杆二，所述支撑杆一和支撑杆二固定在洗涤箱内胆内腔的底端，洗涤箱内胆的顶端设置有箱盖，所述箱盖的顶端设置有提手，所述箱盖的顶端中心设置有圆形通孔，所述圆形通孔的内部且位于所述箱盖的顶端设置有进水管，所述进水管的另一端设置有加压泵。进一步，所述旋转槽的顶端设置有放置槽口，所述放置槽口的内部设置有晶圆片，所述旋转槽的底端设置有支撑杆三，所述支撑杆三贯穿所述支撑圆板。进一步，所述支撑圆板的底端设置有圆形通孔二，所述洗涤箱外壳的底端设置有电机，所述电机的输出轴贯穿所述洗涤箱外壳和洗涤箱内胆和圆形通孔二与所述支撑杆三连接。进一步，所述箱盖的底端设置有圆形通孔三，所述圆形通孔三的内部且位于所述洗涤箱内胆的内胆中设置有喷水头，所述喷水头的底端设置有喷水孔。进一步，所述洗涤箱外壳的底端设置有电机盒，所述洗涤箱外壳的外侧设置有圆形通孔四，所述洗涤箱内胆的底端设置有与所述圆形通孔四相配合的排水管。本技术的有益效果为：将晶圆片放置到旋转槽上的放置槽口的内部，启动电机，电机带动带动旋转槽进行转动，加压泵将水从进水管的内部充入洗涤箱内胆的内部，水流经过喷水头喷水过后产生冲击力对晶圆片进行冲洗操作，电机带动旋转槽进行旋转，对晶圆片进行无死角清洗，其中，旋转槽的顶端设置有放置槽口，所述放置槽口的内部设置有晶圆片，所述旋转槽的底端设置有支撑杆三，所述支撑杆三贯穿所述支撑圆板，从而有利于利用选旋转槽带动晶圆片进行移动，进而有利于对晶圆片进行清洗，支撑圆板的底端设置有圆形通孔二，所述洗涤箱外壳的底端设置有电机，所述电机的输出轴贯穿所述洗涤箱外壳和洗涤箱内胆和圆形通孔二与所述支撑杆三连接，从而利用电机带动洗涤箱内部的旋转槽进行转动为旋转槽提供动力，箱盖的底端设置有圆形通孔三，所述圆形通孔三的内部且位于所述洗涤箱内胆的内胆中设置有喷水头，所述喷水头的底端设置有喷水孔，从而有利于对晶圆片进行清洗，洗涤箱外壳的底端设置有电机盒，所述洗涤箱外壳的外侧设置有圆形通孔四，所述洗涤箱内胆的底端设置有与所述圆形通孔四相配合的排水管，从而将洗涤箱内部的废水排出洗涤箱。通过一体式设计，紧凑，操作方便；流动式操作，避免产品刮花，有效节约水源；清洗效果彻底，清洗效率高，操作简单。利用清洗槽，将晶圆片放置到清洗槽的内部，利用流动的清水对晶圆片进行冲洗，防止了冲洗的过程中清洗的不彻底。利用清洗槽进行清洗提高了清洗的效率，提高了设备的精细化程度。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是根据本技术实施例的立体结构示意图；图2是根据本技术实施例的立体结构爆炸图；图3是根据本技术实施例的局部连接示意图；图4是根据本技术实施例的旋转槽立体图；图5是根据本技术实施例的喷水头立体图。图中：1、洗涤箱外壳；2、洗涤箱内胆；3、支撑杆一；4、支撑圆板；5、旋转槽；6、喷水头；7、箱盖；8、提手；9、圆形通孔；10、进水管；11、加压泵；12、支撑杆二；13、排水管；14、圆形通孔四；15、放置槽口；16、晶圆片；17、支撑杆三；18、电机；19、电机盒；20、喷水孔；21、圆形通孔二；22、圆形通孔三。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。根据本技术的实施例，提供了一种可快速清洗晶圆片的装置。如图1-4所示，根据本技术实施例的可快速清洗晶圆片的装置，包括洗涤箱外壳1，所述洗涤箱外壳1的内部设置有洗涤箱内胆2，所述洗涤箱内胆2的内腔底端设置有支撑圆板4，所述支撑圆板4的顶端设置有旋转槽5，所述支撑圆板4的底端设置有设置有支撑杆一3和支撑杆二12，所述支撑杆一3和支撑杆二12固定在洗涤箱内胆2内腔的底端，洗涤箱内胆2的顶端设置有箱盖7，所述箱盖7的顶端设置有提手8，所述箱盖7的顶端中心设置有圆形通孔9，所述圆形通孔9的内部且位于所述箱盖7的顶端设置有进水管10，所述进水管10的另一端设置有加压泵11。在一个实施例中，对于上述旋转槽5来说，所述旋转槽5的顶端设置有放置槽口15，所述放置槽口15的内部设置有晶圆片16，所述旋转槽5的底端设置有支撑杆三17，所述支撑杆三17贯穿所述支撑圆板4，从而有利于利用选旋转槽5带动晶圆片16进行移动，进而有利于对晶圆片进行清洗。在一个实施例中，对于上述支撑圆板4来说，所述支撑圆板4的底端设置有圆形通孔二21，所述洗涤箱外壳1的底端设置有电机18，所述电机18的输出轴贯穿所述洗涤箱外壳1和洗涤箱内胆2和圆形通孔二21与所述支撑杆三17连接，从而利用电机18带动洗涤箱内部的旋转槽5进行转动为旋转槽5提供动力。在一个实施例中，对于上述箱盖7来说，所述箱盖7的底端设置有圆形通孔三22，所述圆形通孔三22的内部且位于所述洗涤箱内胆2的内胆中设置有喷水头6，所述喷水头6的底端设置有喷水孔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可快速清洗晶圆片的装置，包括：洗涤箱外壳(1)，其特征在于，所述洗涤箱外壳(1)的内部设置有洗涤箱内胆(2)，所述洗涤箱内胆(2)的内腔底端设置有支撑圆板(4)，所述支撑圆板(4)的顶端设置有旋转槽(5)，所述支撑圆板(4)的底端设置有支撑杆一(3)和支撑杆二(12)，所述支撑杆一(3)和支撑杆二(12)固定在洗涤箱内胆(2)内腔的底端，洗涤箱内胆(2)的顶端设置有箱盖(7)，所述箱盖(7)的顶端设置有提手(8)，所述箱盖(7)的顶端中心设置有圆形通孔(9)，所述圆形通孔(9)的内部且位于所述箱盖(7)的顶端设置有进水管(10)，所述进水管(10)的另一端设置有加压泵(11)。/n

【技术特征摘要】
1.一种可快速清洗晶圆片的装置，包括：洗涤箱外壳(1)，其特征在于，所述洗涤箱外壳(1)的内部设置有洗涤箱内胆(2)，所述洗涤箱内胆(2)的内腔底端设置有支撑圆板(4)，所述支撑圆板(4)的顶端设置有旋转槽(5)，所述支撑圆板(4)的底端设置有支撑杆一(3)和支撑杆二(12)，所述支撑杆一(3)和支撑杆二(12)固定在洗涤箱内胆(2)内腔的底端，洗涤箱内胆(2)的顶端设置有箱盖(7)，所述箱盖(7)的顶端设置有提手(8)，所述箱盖(7)的顶端中心设置有圆形通孔(9)，所述圆形通孔(9)的内部且位于所述箱盖(7)的顶端设置有进水管(10)，所述进水管(10)的另一端设置有加压泵(11)。


2.根据权利要求1所述的一种可快速清洗晶圆片的装置，其特征在于，所述旋转槽(5)的顶端设置有放置槽口(15)，所述放置槽口(15)的内部设置有晶圆片(16)，所述旋转槽(5)的底端设置有支撑杆三(17)，所述支撑杆三(17)贯穿...

【专利技术属性】
技术研发人员：辛长林，阚总峰，刘洪刚，赵峰，
申请(专利权)人：安徽高芯众科半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34