一种真空紫外激发及荧光光谱仪的光学系统技术方案

本发明专利技术涉及一种真空紫外激发及荧光光谱仪的光学结构。由氘灯光源１，真空紫外单色仪中包括前置反射镜２、第一入射狭缝３、第一光栅４和第一出射狭缝５；后置反射镜６、样品７、反射镜８、窗口９、可见单色仪中包括第二入射狭缝１０、第二光栅１１、第二出射狭缝１２、光电探测器１３组成。由于本发明专利技术采用氘灯光源和真空紫外单色仪产生１１５ｎｍ－３００ｎｍ的连续激发光谱；为提高光能的利用率，本发明专利技术还利用三个反射镜作光学传递，在取得真空紫外连续激发光的同时，大大减少了系统的能量损失，采用反射镜及可见单色仪构成系统的探测部分，实现了激发源的连续激发谱及样品受激后的荧光光谱的探测，并根据需要算出相对亮度和色坐标等参数。本发明专利技术已形成产品，投入使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光谱测量仪器
，它涉及一种真空紫外激发及荧光光谱仪的光学结构。
技术介绍
为适应国内研究需要，长春光机所1990年先后为杭州大学和信息产业部55所研制了真空紫外荧光光谱仪，图1所示包括光栅1-1、真空紫外单色仪1-2、空心阴极光源1-3、入缝1-4、出缝1-5、样品室1-6、可见光谱仪1-7。该谱仪采用真空紫外空心阴极光源做真空紫外光源，在120nm、145.9nm及175.5nm能产生很强的单谱线辐射。90年代末浙江大学采用气体放电管做真空紫外激发源配合滤光片在145.5nm处产生较强的单谱线。随着国内等离子体平板显示技术的发展(PDP)，用单一谱线作激发源进行荧光光谱分析已远不能满足需要。现有的荧光光谱仪均采用单一波长的光源做激发源，如真空紫外空心阴极光源，在120nm、145.9nm及175.5nm能产生很强的单谱线辐射；气体放电管做真空紫外激发源配合滤光片在145.5nm处产生较强的单谱线。而用30W氘灯作光源，虽然通过VUV单色仪可实现连续谱做激发源，但存在着能量不足的缺点。用大功率的氘灯，工作时过热会给系统带来一系列问题。专利技术内容为了解决
技术介绍
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【技术保护点】
一种真空紫外激发及荧光光谱仪的光学结构，包括：氘灯光源（１）、第一入射狭缝（３）、第一光栅（４）、第一出射狭缝（５）、样品（７）、窗口（９）、第二入射狭缝１０、第二光栅（１１）、第二出射狭缝（１２）、光电探测器（１３），其特征在于还包括有：前置反射镜（２）、后置反射镜（６）、反射镜（８），前置反射镜（２）将氘灯光源（１）１∶１成像于真空紫外单色仪的第一入射狭缝（３）上；再经第一光栅（４）进行色散并汇聚于第一出射狭缝（５），使第一出射狭缝（５）的出射光为发散光，发散光经过后置反射镜（６）汇聚形成激发光，激发光照射在样品（７）上产生漫反射可见波段的荧光，反射镜（８）将样品（７）受激发射的可见光通过...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王淑荣，李福田，王立朋，冯志庆，林雪松，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：82[中国|长春]