【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及镀膜，特别是一种镀膜过程中对已镀膜层的。
技术介绍
光学镀膜一般采用光学监控膜厚的方法，现有的光学监控系统是光学膜厚监控系统(申请号为200510024987.1，2005年11月16日公开)，图1是其光路图，该系统包括光源发射系统18、监控片14、信号接收系统19和锁相放大器12。由图1可见，该光学膜厚监控系统主要包括以下几部分光源发射系统18设置于镀膜机的真空室之顶垂直向下，由带光电池的光源和沿该光源发出的光束的前进方向依次设置的聚光镜15、光阑4、单排孔调制盘5和准直镜16组成，光阑4的光阑孔置于聚光镜15的焦点处，单排孔调制盘5处设有光开关6，该单排孔调制盘5周沿的调制孔贴近所述光阑的光阑孔并位于光源发射系统发出的光束上；监控片14置于镀膜机的真空室中并位于上述的光源发射系统的光束上。信号接收系统19由设置于真空室之底盘下并与所述的光源发射系统发出的经监控片14的光束成45°的半透半反镜9、会聚镜8、单色仪7和光电倍增管10组成一共轴系统；光电倍增管10的信号输出端通过屏蔽线和锁相放大器12的信号输入端相连，光开关6的信号输出端通过屏蔽线...
【技术保护点】
一种用于镀膜过程中在线的膜层光谱的实时测量装置，包括一光学膜厚监控系统，其特征在于还有一计算机（２０），该计算机（２０）有两个ＲＳ２３２标准串口，第一串口接所述的光学膜厚监控系统的单色仪（７），第二串口接所述的光学膜厚监控系统的锁相放大器（１２），所述的计算机（２０）与所述的单色仪（７）和所述的锁相放大器（１２）进行通讯，并按设定的扫描控制程序采集数据并进行数据处理。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：高慧慧，朱美萍，肖连君，易葵，范正修，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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