一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台，包括有主架，主架的顶部凸起设置有多个靶材置放部，靶材置放部包括有多个用于承托靶材工件的承托掐口，承托掐口开口向上设置，承托掐口的掐口大小不小于靶材工件的径宽。同一靶材置放部的各承托掐口分别沿直线方向排列设置，同一靶材置放部的相邻的两个承托掐口之间分别间隔设置有悬空吊装间距，靶材工件的相应部分分别嵌入于同一靶材置放部的各个承托掐口内，各个承托掐口的内侧面分别与靶材工件的外表面进行间隙配合。与现有技术相比，本实用新型专利技术通过多个与靶材工件的轮廓相匹配的承托掐口对靶材工件进行多点承托支撑，避免靶材工件发生意外侧滚，放置靶材工件意外跌落。

【技术实现步骤摘要】
一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台
本技术涉及靶材生产设备
，尤其是涉及一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台。
技术介绍
旋转靶，也称磁控溅射旋转圆柱阴极靶，已经被广泛的应用于工业化制备大面积功能薄膜的生产中。旋转靶是以磁控溅射技术为基础，它的出现恰恰满足了工业化制备大面积高质量功能薄膜的要求。旋转靶不但继承了磁控溅射技术在较低工作压强下得到较高的沉积速率、在较低的基片温度下获得较均匀的附着力较高的薄膜的优势，而且比传统的平面靶有着突出的优势。旋转靶在生产过程中需要进行多个加工步骤，包括有打磨、绑定和溅射成膜等，在各个生产环节的转换过程中都需要对旋转靶工件进行待放、转移，目前尚未出现一种能够方便吊装、转移以及具有防跌落、防变形功能的置放平台。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的是提供一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台，稳定地待放旋转靶，防止旋转靶意外跌落、变形，方便进行吊装工装。为了实现上述目的，本技术所采用的技术方案是：一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台，包括有主架，主架的顶部凸起设置有多个靶材置放本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台，包括有主架(1)，其特征在于：主架(1)的顶部凸起设置有多个靶材置放部，靶材置放部包括有多个用于承托靶材工件(5)的承托掐口(30)，承托掐口(30)开口向上设置，承托掐口(30)的掐口大小不小于靶材工件(5)的径宽，/n同一靶材置放部的各承托掐口(30)分别沿直线方向排列设置，同一靶材置放部的相邻的两个承托掐口(30)之间分别间隔设置有悬空吊装间距，靶材工件(5)的相应部分分别嵌入于同一靶材置放部的各个承托掐口(30)内，各个承托掐口(30)的内侧面分别与靶材工件(5)的外表面进行间隙配合。/n

【技术特征摘要】
1.一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台，包括有主架(1)，其特征在于：主架(1)的顶部凸起设置有多个靶材置放部，靶材置放部包括有多个用于承托靶材工件(5)的承托掐口(30)，承托掐口(30)开口向上设置，承托掐口(30)的掐口大小不小于靶材工件(5)的径宽，
同一靶材置放部的各承托掐口(30)分别沿直线方向排列设置，同一靶材置放部的相邻的两个承托掐口(30)之间分别间隔设置有悬空吊装间距，靶材工件(5)的相应部分分别嵌入于同一靶材置放部的各个承托掐口(30)内，各个承托掐口(30)的内侧面分别与靶材工件(5)的外表面进行间隙配合。


2.根据权利要求1所述的一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台，其特征在于：所述承托掐口(30)的横截面呈半圆形状设置，同一所述靶材置放部的各个承托掐口(30)分别进行同轴配合，承托掐口(30)的掐口大小等于靶材工件(5)的直径大小。


3.根据权利要求2所述的一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台，其特征在于：每个所述靶材置放部包括有多个所述承托掐口(30)，各承托掐口(30)分别沿所述主架(1)的前后方向直线设置，相邻的两个承托掐口(30)之间分别间隔设置有一所述悬空吊装间距，悬空吊装间距设置为0.5m～1.5m。


4.根据权利要求3所述的一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台，其特征在于：所述主架(1)的顶部安装有多个呈长条块状的承托块(3)，各承托块(3)分别沿主架(1)的前后方向间隔成排设置，相邻的两个承托块(3)之间间隔形成所述悬空吊装间距，
各承托块(3)的顶部沿主架(1)的左右方向分别凹嵌成型有多个所述承托掐口(30)，各承托块(3)的各承托掐口(30)分别沿主架(1)的前后方向直线对齐，形成多个所述靶材置放部。


5.根据权利要求4所述的一种TFT旋转溅射靶材防跌落平台，其特征在于：所述承托块(3)设置有缓冲结构，包括以下结构的一种或一种以上，
1)承托块(3)与所述主架(1)之间...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭文明，
申请(专利权)人：东莞市欧莱溅射靶材有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44