一种提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法技术

本发明专利技术公开了一种提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法，在不改变外在条件的前提下，基于激光直写技术来刻蚀钙钛矿量子点薄膜，以提高其偏振度，具体包括以下步骤：首先清洗基片，基片为旋涂钙钛矿量子点薄膜的衬底；然后将清洗后的基片烘干后，放入UV O

【技术实现步骤摘要】
一种提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法
本专利技术涉及一种提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法，属于新材料

技术介绍
偏振是电磁波的重要特征,偏振是光除了波长、振幅、相位以外的又一重要属性。而偏振光对于显示，成像和信息存储等应用是十分必要的。常应用于液晶显示器(LCD)背光，生物系统的标记，光学量子计算机，以及三维显示系统。对于某些发光材料，通过一定的手段使其发射的光产生偏振特性，可拓宽其在显示、数据存储、信息加密等方面的应用。近年来，钙钛矿材料的研究引人注目，其荧光量子效率高，载流子扩散长度长、载流子迁移速率高等优势，使得钙钛矿在发光器件领域取得巨大进展。纯无机卤素钙钛矿CsPbX3(X＝Cl,Br,I)，自Kovalenko课题组报道后，由于其优异的性能，格外引人关注。用纯无机卤素钙钛矿量子点制备的薄膜，光致发光纯度更高，且有更窄的半峰全宽。而且CsPbX3钙钛矿量子点在不使用额外偏振器的情况下，形成的薄膜就可以产生偏振光，所以可通过一定的手段对其进行加工处理，使材料整体结构发生改变，从而提高其偏振特性，拓展钙钛矿量子点的应用。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法，其特征在于：在不改变外在条件的前提下，基于激光直写技术来刻蚀钙钛矿量子点薄膜，以提高其偏振度，具体包括以下步骤：/n步骤1：清洗基片；/n步骤2：将步骤1中清洗后的基片烘干后，放入UV O

【技术特征摘要】
1.一种提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法，其特征在于：在不改变外在条件的前提下，基于激光直写技术来刻蚀钙钛矿量子点薄膜，以提高其偏振度，具体包括以下步骤：
步骤1：清洗基片；
步骤2：将步骤1中清洗后的基片烘干后，放入UVO3清洗机中继续清洗；
步骤3：将步骤2清洗后的基片放在制膜设备上，并用钙钛矿量子点材料在清洗后的基片上制备薄膜，得到钙钛矿量子点薄膜；
步骤4：激光直写扫描钙钛矿量子点薄膜。


2.根据权利要求1所述的提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法，其特征在于：所述步骤1中使用超声清洗机清洗基片，具体包括以下操作步骤：
步骤1.1：将基片置于添加有洗涤剂的容器内，
步骤1.2：容器置于超声清洗机中，并在超声清洗机中加入一定量的水，
步骤1.3：打开超声清洗机对基片进行超声清洗。


3.根据权利要求1所述的提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法，其特征在于：所述步骤4的具体操作步骤如下：
步骤4.1：使用三维电动位移台控制软件，根据预定设计的图形来编辑平移台移动路径及速度，
步骤4.2：将步骤3制备的钙钛矿量子点薄膜放置在三维电动位移台上，
步骤4.3：通过三维电动位移台控制软件控制钙钛矿量子点薄膜移动到设定的起...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈军，马腾，韦奕，曲华松，曾海波，
申请(专利权)人：南京理工大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32