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本发明公开了一种提高钙钛矿量子点薄膜偏振度的方法，在不改变外在条件的前提下，基于激光直写技术来刻蚀钙钛矿量子点薄膜，以提高其偏振度，具体包括以下步骤：首先清洗基片，基片为旋涂钙钛矿量子点薄膜的衬底；然后将清洗后的基片烘干后，放入UV O...
该专利属于南京理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京理工大学授权不得商用。

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