液晶体光栅的制作方法技术

本发明专利技术公开一种液晶体光栅的制作方法，包括如下步骤：提供两个基底，在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层；对所述胶层进行刻蚀，形成多个刻蚀区，并对所述配向层进行曝光，形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区；向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅。本发明专利技术将不同区域体光栅整合到同一块基底上，将形成有多个曝光区的基底与形成有多个刻蚀区的基底粘接即可形成液晶体光栅，无需经过多个玻璃基底拼接，避免液晶体光栅的玻璃基底边缘漏光的情况。并且，液晶体光栅的各光栅厚度可调，进而实现液晶体光栅的衍射效率的调节，工艺兼容性好、灵活性高。

【技术实现步骤摘要】
液晶体光栅的制作方法
本专利技术涉及光学
，特别涉及一种液晶体光栅的制作方法。
技术介绍
液晶体光栅的衍射效率与液晶Δn（双折射率）和光栅厚度有关系，在保证液晶Δn不变的条件下，可以通过调节光栅厚度来调节其衍射效率。目前，通常采用多个玻璃基底拼接方式或喷涂方式制作液晶体光栅，其中，多个玻璃基底拼接方式是将光栅耦入区、转折区以及耦出区分别涂在多个不同的玻璃基底上，再将多个玻璃基底拼接起来，但是采用这种拼接方式制成的液晶体光栅的玻璃边缘容易漏光，降低液晶体光栅的衍射效率。喷涂方式虽然可采用一整体的玻璃基体就可完成，但是其光栅厚度不可调，光栅厚度一致，不能调节液晶体光栅的衍射效率，兼容性及灵活性差。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提出一种液晶体光栅的制作方法，旨在解决现有的采用多个玻璃基底拼接的方式及喷涂方式制作液晶体光栅存在容易漏光及不能调节液晶体光栅衍射效率的技术问题。为实现上述目的，本专利技术提出一种液晶体光栅的制作方法，所述液晶体光栅的制作方法包括如下步骤：提供两个基底，在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层；对所述胶层进行刻蚀，形成多个刻蚀区，并对所述配向层进行曝光，形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区；向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅。优选地，所述提供两个基底，在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层的步骤包括：在其中一个所述基底上旋涂与所述基底的折射率一致或基本一致的粘胶，形成所述胶层；在另一个所述基底上旋涂、喷涂、喷墨打印或刮涂一层配向薄膜，并对所述配向薄膜进行光致配向、摩擦配向或离子束配向处理，形成所述配向层。优选地，所述胶层的折射率与所述基底的折射率的差值范围为-0.1~0.1。优选地，所述对所述胶层进行刻蚀，形成多个刻蚀区，并对所述配向层进行曝光，形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区的步骤包括：固化所述胶层，采用光刻或电子束刻方式对所述胶层进行刻蚀，形成多个所述刻蚀区；采用双光束干涉曝光配掩膜版的方式对所述配向层进行曝光，形成多个所述曝光区。优选地，所述向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅的步骤包括：将液晶混合物旋涂或灌注进各所述刻蚀区内；其中，所述液晶混合物为非可聚合液晶单体、手性剂以及溶剂混合形成的混合物；或者，所述液晶混合物为可聚合液晶单体、手性剂、引发剂、助引发剂以及溶剂混合形成的混合物；将所述曝光区所在的所述基底通过粘胶盖合粘接在所述刻蚀区所在的所述基底上方，以使多个所述曝光区一一对应粘接在多个所述刻蚀区上方，形成所述液晶体光栅。优选地，所述向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅的步骤之后，还包括：在70~80℃的温度下对所述液晶体光栅加热1~5min。优选地，所述在70~80℃的温度下对所述液晶体光栅加热1~5min的步骤之后，还包括：当所述液晶混合物为非可聚合液晶单体、手性剂以及溶剂混合形成的混合物时，对所述液晶光栅体进行固化处理。优选地，所述胶层的厚度为100~1000um，所述刻蚀区的深度为1~100um，且所述胶层的厚度大于所述刻蚀区的厚度。优选地，所述曝光区的尺寸大于或等于和与其对应的所述刻蚀区的尺寸。优选地，所述刻蚀区和所述曝光区的数量均为三个，三个所述刻蚀区分别为耦入区、转折区和耦出区，所述耦入区、所述转折区和所述耦出区分别对应粘接在三个所述曝光区上。本专利技术液晶体光栅的制作方法，通过在一个基底上铺设胶层，对所述胶层进行刻蚀形成多个刻蚀区，向各刻蚀区内填充液晶体混合物，并且，通过在另一个基底上铺设配向层，对配向层进行曝光形成多个曝光区。然后将两个基底粘接，使得多个所述刻蚀区一一对应粘接在所述曝光区上即可形成液晶体光栅，工艺简单方便。相较于现有采用多个玻璃基底拼接的方式制成液晶体光栅而言，通过采用本专利技术液晶体光栅的制作方法，使得液晶体光栅的多个刻蚀区形成在同一块基底上，从而将不同区域体光栅整合到同一块基底上，将形成有多个曝光区的基底与形成有多个刻蚀区的基底粘接即可形成液晶体光栅，无需经过多个玻璃基底拼接，避免液晶体光栅的玻璃基底边缘漏光的情况，提高液晶体光栅的衍射效率。相较于采用喷涂方式制成的液晶体光栅而言，通过采用本专利技术液晶体光栅的制作方法，使得液晶体光栅的各刻蚀区的深度可调，实现各光栅厚度可调，进而实现液晶体光栅的衍射效率的调节，工艺兼容性好、灵活性高。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为本专利技术液晶体光栅的制作方法第一实施例的流程示意图；图2为本专利技术一实施例第一基板刻蚀前的侧视示意图；图3为本专利技术一实施例第一基板刻蚀后的侧视示意图；图4为本专利技术一实施例刻蚀区填充液晶混合物后的侧视示意图；图5为本专利技术一实施例第一基板的主视示意图；图6为本专利技术一实施例第二基板曝光前的侧视示意图；图7为本专利技术一实施例第二基板曝光后的侧视示意图；图8为本专利技术一实施例液晶体光栅的侧视示意图；图9为本专利技术液晶体光栅的制作方法第二实施例的流程示意图；图10为本专利技术液晶体光栅的制作方法第三实施例的流程示意图；图11为本专利技术液晶体光栅的制作方法第四实施例的流程示意图；图12为本专利技术液晶体光栅的制作方法第五实施例的流程示意图。附图标号说明：标号名称标号名称100液晶体光栅40刻蚀区10基底41耦入区11第一基底42转折区12第二基底43耦出区20胶层50曝光区30配向层60液晶混合物本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明，若本专利技术实施例中有涉及方向性指示（诸如上、下、左、右、前、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述液晶体光栅的制作方法包括如下步骤：/n提供两个基底，在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层；/n对所述胶层进行刻蚀，形成多个刻蚀区，并对所述配向层进行曝光，形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区；/n向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅。/n

【技术特征摘要】
1.一种液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述液晶体光栅的制作方法包括如下步骤：
提供两个基底，在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层；
对所述胶层进行刻蚀，形成多个刻蚀区，并对所述配向层进行曝光，形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区；
向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅。


2.如权利要求1所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述提供两个基底，在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层的步骤包括：
在其中一个所述基底上旋涂与所述基底的折射率一致或基本一致的粘胶，形成所述胶层；
在另一个所述基底上旋涂、喷涂、喷墨打印或刮涂一层配向薄膜，并对所述配向薄膜进行光致配向、摩擦配向或离子束配向处理，形成所述配向层。


3.如权利要求2所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述胶层的折射率与所述基底的折射率的差值范围为-0.1~0.1。


4.如权利要求1所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述对所述胶层进行刻蚀，形成多个刻蚀区，并对所述配向层进行曝光，形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区的步骤包括：
固化所述胶层，采用光刻或电子束刻方式对所述胶层进行刻蚀，形成多个所述刻蚀区；
采用双光束干涉曝光配掩膜版的方式对所述配向层进行曝光，形成多个所述曝光区。


5.如权利要求1所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅的步骤包括：
将液晶混合物旋涂...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨镇源，赵东峰，李琨，赵恩，杜凯凯，程鑫，饶轶，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37