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本发明公开一种液晶体光栅的制作方法，包括如下步骤：提供两个基底，在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层；对所述胶层进行刻蚀，形成多个刻蚀区，并对所述配向层进行曝光，形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区；向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个...
该专利属于歌尔股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过歌尔股份有限公司授权不得商用。

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