超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料及制备方法，聚酰亚胺光学薄膜材料由芳香族二酐单体，含有酰胺键的芳香族二胺单体以及不含酰胺键二胺单体经缩聚反应形成聚酰胺酸胶液，经旋凃成膜，以及热亚胺化后制得；本发明专利技术还公开了该材料的制备方法，制备方法简单，制得的聚酰亚胺薄膜具有超低热膨胀系数、高机械强度、较好的光学透过性及较好的热稳定性；本发明专利技术的聚酰亚胺薄膜材料通过旋凃方法获得，可应用于光学薄膜衍射透镜、柔性薄膜太阳能电池、OLED柔性显示基底等领域，具有广泛的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料及制备方法
本专利技术属于材料领域，具体涉及超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料及制备方法。
技术介绍
聚酰亚胺是主链上含有酰亚胺环的一类高性能缩聚物，由于其具较高的机械强度、抗电阻性、抗化学腐蚀性及优异的热稳定性而被广泛的应用于航空航天、电子工业及屏幕显示等领域。但是传统聚酰亚胺薄膜材料热尺寸稳定性较差，受环境温度变化材料尺寸变化较大，这严重限制了其在光电领域的应用。高尺寸稳定性聚酰亚胺薄膜有几个比较迫切的需求，例如替代传统无机材料作为轻量化成像系统中的薄膜光学元件基底材料；作为新一代显示屏幕的柔性衬底；作为太阳能电池的柔性衬底。因此急需一种轻质、具有高尺寸稳定性、高强度、高热稳定性的聚酰亚胺薄膜材料，使其在轻量化光学系统、柔性显示和太阳能电池技术中成为新一代的基础材料。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术的目的之一在于提供一种高热尺寸稳定性、高强度的聚酰亚胺光学薄膜材料：本专利技术的目的之二在于提供高热尺寸稳定性、高强度的聚酰亚胺光学薄膜材料的制备方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料，其特征在于：所述聚酰亚胺光学薄膜材料由芳香族二胺和芳香二酐单体在摩尔比为1：(0.98-1.02)条件下发生缩聚反应形成聚酰胺酸胶液，达到一定分子量后加入链段封端剂控制链段分子量，经旋凃成膜、热亚胺化制得。/n

【技术特征摘要】
1.一种超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料，其特征在于：所述聚酰亚胺光学薄膜材料由芳香族二胺和芳香二酐单体在摩尔比为1：(0.98-1.02)条件下发生缩聚反应形成聚酰胺酸胶液，达到一定分子量后加入链段封端剂控制链段分子量，经旋凃成膜、热亚胺化制得。


2.根据权利要求1所述超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料，其特征在于：所述芳香族二酐为3,3',4,4'-联苯四甲酸二酐(BPDA)与均苯四甲酸酐(PMDA)中的一种或两种混合；所述芳香二胺为含酰胺键4,4’-二氨基苯酰替苯胺(DABA)以及不含酰胺键二胺2,2’-二甲基-4,4’-二氨基联苯(TMDB)；所述封端剂为间苯二甲酸。


3.根据权利要求2所述超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料，其特征在于：所述聚酰亚胺光学薄膜材料在-150～100℃的热膨胀系数为-2ppm～5ppm/℃；拉伸强度为200～250MPa；玻璃化转变温度为280～380℃；在50...

【专利技术属性】
技术研发人员：殷家家，毛丹波，范斌，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：四川;51