表面等离子体共振成像金膜点微阵列的制备方法技术

技术编号:2574101 阅读:233 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术旨在提供一种表面等离子体共振成像金膜点微阵列的制备方法。首先在3-氨基丙基三甲氧基硅烷修饰的玻璃片上自组装一层直径为2.5纳米的金胶纳米粒子单层作为催化模板。然后以透明胶片高精度打印的点阵阵列图样为掩模对上述金纳米粒子修饰的玻璃片进行光学刻蚀,制备出金纳米粒子的微阵列。最后采用无电镀金技术在纳米尺度范围内控制金纳米粒子点微阵列的均匀增长,从而构建所需的金膜点微阵列,微阵列中金点的大小和间距可方便地由掩模来控制,金点的厚度通过调节无电镀金的时间来控制。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于。
技术介绍
表面等离子体共振(SPR)成像技术是SPR方法结合电荷耦合器 件(CCD)摄谱的一种快速高通暈分析方法(SteinerG., Anal.Bioanal. Chem. 2004, 379, 328-331)。这种技术操作简单,并且可以同时测定成 千上万个样品。因此,SPR成像技术已受到国内外的关注,并且已 经被广泛用于研究生物分子相互作用。应用SPR成像技术分析生物分 子相互作用的前提是制备出合格的样品点阵列。到目前为止,已报道 的SPR图象分析所用的点阵构建方式主要有三种。第一种是在连续 的金膜表面采用自组装单层膜的多步化学修饰和紫外光照射下的光 敏化学基团刻蚀相结合来产生样品阵列(Robert M. Com et al, J. Am. Chem. Soc., 1999,121, 8044-8051)。第二种方法是首先构建PDMS的微流通道或微通道的交叉阵列,然后在这些微通道中检测分子相互作 用(Hye Jin Lee etal, Anal. Chem., 2001,73,5525-5531)。当前较为常 用的为第三种方法,即象DNA芯片构建方式那样采本文档来自技高网...

【技术保护点】
表面等离子体共振成像金膜点微阵列的制备方法,其特征在于步骤和条件如下:(1)制备胶体金纳米粒子修饰的玻璃片将清洗过的玻璃片浸泡在体积浓度为10%的氨基丙基三甲氧基硅烷的无水甲醇溶液中12小时,制备出氨基硅烷修饰的玻璃片,用甲醇溶液冲洗干净,然后将其浸泡到平均直径为2.5纳米的胶体金纳米粒子溶液中18小时,在其表面组装一层金纳米粒子,将其取出用氮气吹干,备用;(2)光刻法制备金纳米粒子点微阵列修饰的玻璃片将步骤(1)得到胶体金纳米粒子修饰的玻璃片在胶体金纳米粒子溶液中浸泡18小时取出,二次水冲洗,氮气吹干,把正性光刻胶旋涂于纳米金修饰的玻璃片表面,紫外光通过掩模曝光后,用碱液显影,之后,采用选择...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:董绍俊王建龙
申请(专利权)人:中国科学院长春应用化学研究所
类型:发明
国别省市:82[中国|长春]

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