一种石英舟制造技术

技术编号:25726999 阅读:66 留言:0更新日期:2020-09-23 03:14
本实用新型专利技术涉及太阳能电池生产技术领域,具体公开一种石英舟。该石英舟包括舟体和舟盖,舟体内底面和相对的两个侧面均间隔且成对设置有多个第一卡片板,成对的两个第一卡片板之间形成第一卡槽,舟体在相邻的两个第一卡槽的位置处设置为开口结构,舟体的另外两个侧面为开口结构,舟盖能够盖设于舟体上,舟盖的顶面间隔且成对设置有多个第二卡片板,成对的两个第二卡片板之间形成第二卡槽,舟盖盖设于舟体上后,第一卡槽和与其对应的第二卡槽之间形成方形卡槽,方形卡槽内能够容纳两个硅片,方形卡槽与硅片的边缘过盈配合。在使用时,每个方形卡槽内的两个硅片只有向外的表面会接触到反应气体,从而避免硅片在镀膜工序中发生绕镀的现象。

【技术实现步骤摘要】
一种石英舟
本技术涉及太阳能电池生产
,尤其涉及一种石英舟。
技术介绍
在太阳能电池片的制造过程中,硅片进行其表面镀膜工序时,需要将未镀膜的硅片置于LPCVD真空镀膜设备中完成镀膜工序,在PECVD真空镀膜设备中通常采用石英舟进行电池片的承载和工艺,对于管式LPCVD镀膜,单面沉积比起双面沉积更具有节约硅烷成本,提高产能的优势。现有技术中,由于放置于石英舟上的硅片与卡槽之间存在间隙,在对硅片进行镀膜工艺时,反应气体很容易从间隙中进入,并在硅片不需要镀膜的表面上形成镀膜层,即发生绕镀现象。硅片镀膜工艺完成后,还要对硅片进行清洗,但是发生绕镀现象的硅片清洗步骤较为复杂,工艺成本较高。此外,如果绕镀现象发生在硅片的侧面,则很容易破坏硅片表面完好的镀膜。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种石英舟,结构简单,能够避免硅片在镀膜工序中发生绕镀的现象,保证硅片的镀膜效果。如上构思,本技术所采用的技术方案是:一种石英舟,包括:舟体,其内底面和相对的两个侧面均间隔且成对设置有多个第一卡片板,成对的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种石英舟,其特征在于,包括:/n舟体(1),其内底面和相对的两个侧面均间隔且成对设置有多个第一卡片板(11),成对的两个所述第一卡片板(11)之间形成第一卡槽,所述舟体(1)在相邻的两个所述第一卡槽的位置处设置为开口结构,所述舟体(1)的另外两个侧面为开口结构;/n舟盖(2),其能够盖设于所述舟体(1)上,所述舟盖(2)的顶面间隔且成对设置有多个第二卡片板(21),成对的两个所述第二卡片板(21)之间形成第二卡槽;/n所述舟盖(2)盖设于所述舟体(1)上后,所述第一卡槽和与其对应的所述第二卡槽之间形成方形卡槽,所述方形卡槽内能够容纳两个硅片(100),所述方形卡槽与所述硅片(100)的边...

【技术特征摘要】
1.一种石英舟,其特征在于,包括:
舟体(1),其内底面和相对的两个侧面均间隔且成对设置有多个第一卡片板(11),成对的两个所述第一卡片板(11)之间形成第一卡槽,所述舟体(1)在相邻的两个所述第一卡槽的位置处设置为开口结构,所述舟体(1)的另外两个侧面为开口结构;
舟盖(2),其能够盖设于所述舟体(1)上,所述舟盖(2)的顶面间隔且成对设置有多个第二卡片板(21),成对的两个所述第二卡片板(21)之间形成第二卡槽;
所述舟盖(2)盖设于所述舟体(1)上后,所述第一卡槽和与其对应的所述第二卡槽之间形成方形卡槽,所述方形卡槽内能够容纳两个硅片(100),所述方形卡槽与所述硅片(100)的边缘过盈配合。


2.根据权利要求1所述的石英舟,其特征在于,所述第一卡槽的槽宽和所述第二卡槽的槽宽均为两个所述硅片(100)的厚度之和。


3.根据权利要求2所述的石英舟,其特征在于,在所述第一卡槽的槽壁上和所述第二卡槽的槽壁上均设置有弹性层。


4.根据权利要求1所述的石英舟,其特征在于,所述第一卡槽靠近所述第二卡槽的一端开口呈喇叭状。


5.根据权利要求1-4任一项所述的石英舟,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:安欣睿陈瑶
申请(专利权)人:苏州阿特斯阳光电力科技有限公司阿特斯阳光电力集团有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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