一种板式PECVD镀膜载板制造技术

技术编号:25592000 阅读:39 留言:0更新日期:2020-09-11 23:50
本发明专利技术涉及一种板式PECVD镀膜载板,包括载板,所述载板包括框架和支撑板,所述框架上开设有若干用于承载支撑板的承载槽;所述支撑板与框架配合连接;在所述支撑板的内侧边缘设有支撑硅片的承载面。本发明专利技术可灵活更换不同尺寸支撑板对相应尺寸硅片镀膜,节省了不同尺寸载板采购成本和维护成本;承载槽内设置加强筋,抗形变能力强,从而减少硅片不良率。

【技术实现步骤摘要】
一种板式PECVD镀膜载板
本专利技术涉及硅片板式PECVD镀膜领域,具体公开一种板式PECVD镀膜载板。
技术介绍
板式PECVD镀膜工序中,载板作为用于装载硅片进入镀膜设备的一种装载工具,其材料由碳碳复合材料或石墨材料制造,在每个支撑槽内放置硅片,载板装载着硅片由输送设备进入镀膜设备,整个镀膜过程中,载板需要分别进入不同的腔体,分别有着不同工艺条件,如气压状态,不同的温度,不同的反应气体等,镀膜完成后,再装载新的硅片循环进行。因此整个镀膜工程中对载板表现要求很高,因此载板的好坏会直接影响到后道工序硅片的质量表现。载板(参见中国技术专利2016213857741)上槽的大小是根据硅片大小设置,在对不同型号硅片镀膜时需选择不同尺寸型号的载板,这势必增加载板的购置成本和维护成本。载板长时间使用后硅片承载面会有损耗缺陷,对硅片镀膜质量有影响;使用一段时间后需要整体更换载板,增加硅片的镀膜成本。
技术实现思路
本专利技术的目的在于:为解决以上问题提供一种抗形变能力强、减少载板购置和维护成本的板式PECVD镀膜载板。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种板式PECVD镀膜载板,包括载板,其特征在于:所述载板包括框架和支撑板,所述框架上开设有若干用于承载支撑板的承载槽;所述支撑板与框架配合连接;在所述支撑板的内侧边缘设有支撑硅片的承载面。/n

【技术特征摘要】
1.一种板式PECVD镀膜载板,包括载板,其特征在于:所述载板包括框架和支撑板,所述框架上开设有若干用于承载支撑板的承载槽;所述支撑板与框架配合连接;在所述支撑板的内侧边缘设有支撑硅片的承载面。


2.根据权利要求1所述的一种板式PECVD镀膜载板,其特征在于:在所述框架对应支撑板至少一组对角处设置螺栓;所述支撑板与框架通过螺栓配合连接。


3.根据权利要求2所述的一种板式PECVD镀膜载板,其特征在于:在所述框架对应支撑板至少一组对角处设置螺栓孔;所述螺栓上端部螺栓帽压制支撑板,下端穿过螺栓孔实现框架与支撑板间的连接固定。


4.根据权利要求2所述的一种板式PECVD镀膜载板,其特征在于:所述支撑板每个角处设置与螺栓螺杆部弧度匹配的弧形凹槽。


5.根据权利要求1所述的一种板式PECVD镀膜载板,其特征在于:所述支撑板底面封闭,承载槽内形成有与框架一体化成型的加强筋;或所述承载...

【专利技术属性】
技术研发人员:钱孟蒲天尹鸣
申请(专利权)人:梅耶博格光电设备上海有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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