【技术实现步骤摘要】
光控系统及方法
本专利技术涉及光学
,尤其涉及一种光控系统及方法。
技术介绍
光刻技术是芯片制造的底层技术。也可广泛应用于防伪等其他应用场景中。
技术实现思路
本专利技术目的在于公开一种光控系统及方法,以提高操作的便利性和联动的智能性。为达上述目的,本专利技术公开一种光控系统,包括:第一光源模块,用于发出光刻用的激光;开关控制器,位于所述第一光源模块与偏振控制模块之间,用于随光刻像素点的位移变化而同步切换所述第一光源模块射入所述偏振控制模块的光路“开”、“关”状态;所述偏振控制模块,用于获取各像素值与偏振方向的映射关系表;并在获取当前待刻像素点的像素值后,根据所述映射关系表调制光刻激光的偏振方向;显微物镜,位于所述偏振控制模块与位移台之间;第二光源模块,用于发出光斑大小校正用的可见光,且所述可见光为通过所述显微物镜射向样品但不改变所述样品光刻信息的可见光;光斑校正模块,用于对每个像素点进行光斑校正,并在每次的校正过程中,接收所述样品反射后经所述显微物镜返回的可见光,并判定反射回的可见光的光斑大小是否与目标一致,如果不一致,指令所述位移台调整Z轴位移直至反射光斑大小与目标一致;并在光斑校正后,指令所述开关控制器切换到写入当前像素点的光路的“开”状态;所述位移台,用于承载样品、并根据所述开关控制器的状态同步切换XY轴的像素位移,以及根据光斑校正模块的指令切换Z轴的像素位移。为达上述目的,本专利技术还公开一种光控方法,其特征在 ...
【技术保护点】
1.一种光控系统,其特征在于,包括:/n第一光源模块,用于发出光刻用的激光;/n开关控制器,位于所述第一光源模块与偏振控制模块之间,用于随光刻像素点的位移变化而同步切换所述第一光源模块射入所述偏振控制模块的光路“开”、“关”状态;/n所述偏振控制模块,用于获取各像素值与偏振方向的映射关系表;并在获取当前待刻像素点的像素值后,根据所述映射关系表调制光刻激光的偏振方向;/n显微物镜,位于所述偏振控制模块与位移台之间;/n第二光源模块,用于发出光斑大小校正用的可见光,且所述可见光为通过所述显微物镜射向样品但不改变所述样品光刻信息的可见光;/n光斑校正模块,用于对每个像素点进行光斑校正,并在每次的校正过程中,接收所述样品反射后经所述显微物镜返回的可见光,并判定反射回的可见光的光斑大小是否与目标一致,如果不一致,指令所述位移台调整Z轴位移直至反射光斑大小与目标一致;并在光斑校正后,指令所述开关控制器切换到写入当前像素点的光路的“开”状态;/n所述位移台,用于承载样品、并根据所述开关控制器的状态同步切换XY轴的像素位移,以及根据光斑校正模块的指令切换Z轴的像素位移。/n
【技术特征摘要】
1.一种光控系统,其特征在于,包括:
第一光源模块,用于发出光刻用的激光;
开关控制器,位于所述第一光源模块与偏振控制模块之间,用于随光刻像素点的位移变化而同步切换所述第一光源模块射入所述偏振控制模块的光路“开”、“关”状态;
所述偏振控制模块,用于获取各像素值与偏振方向的映射关系表;并在获取当前待刻像素点的像素值后,根据所述映射关系表调制光刻激光的偏振方向;
显微物镜,位于所述偏振控制模块与位移台之间;
第二光源模块,用于发出光斑大小校正用的可见光,且所述可见光为通过所述显微物镜射向样品但不改变所述样品光刻信息的可见光;
光斑校正模块,用于对每个像素点进行光斑校正,并在每次的校正过程中,接收所述样品反射后经所述显微物镜返回的可见光,并判定反射回的可见光的光斑大小是否与目标一致,如果不一致,指令所述位移台调整Z轴位移直至反射光斑大小与目标一致;并在光斑校正后,指令所述开关控制器切换到写入当前像素点的光路的“开”状态;
所述位移台,用于承载样品、并根据所述开关控制器的状态同步切换XY轴的像素位移,以及根据光斑校正模块的指令切换Z轴的像素位移。
2.根据权利要求1所述的光控系统,其特征在于,所述开关控制器及所述偏振控制模块还用于同步以像素大小的行或列为预存单位进行数据获取;且所述偏振控制模块设置有切换频率能与所述预存单位相配套的电光晶体以电控方式调制光刻激光的偏振方向。
3.根据权利要求2所述的光控系统,其特征在于,在所述显微物镜与所述偏振控制模块之间设置有二向色镜;
所述二向色镜用于透射光刻激光、并搭建所述光斑校正模块所需的可见光的反射光路;
其中,所述可见光光轴与光刻激光的光轴相偏离。
4.根据权利要求3所述的光控系统,其特征在于,在所述第一光源模块与所述偏振控制模块之间设置有光束整形组件。
5.一种光控方法,其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:代林茂,李晓春,张礼朝,黄晖辉,陈鸿飞,
申请(专利权)人:长沙麓邦光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:湖南;43
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