【技术实现步骤摘要】
一种曝光机及其调整方法
本专利技术涉及半导体
,尤指一种曝光机及其调整方法。
技术介绍
在器件的制备过程的光刻工艺中,一般采用激光直接成像(LaserDirectImaging,LDI)技术的曝光机对光刻胶进行曝光。曝光机包括激光扫描部和载台,其中激光扫描部包括多个激光头,如图1所示,在激光头中,激光光源110发射的光经过反射镜片120反射到数字微镜装置(DigitalMicromirrorDevice,DMD)130中,再经过DMD反射后穿过光学成像镜头在基板200上曝光形成系统中图形文件的图案。目前曝光不均匀即Mura是影响曝光机技术发展的主要问题,在曝光过程中,当激光头的位置发生相对偏移时会造成曝光的拼接区出现图形拼接错位,从而造成相邻两个激光头曝光出来的图形拼接异常,在宏观上观察就会出现Mura。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术实施例提供一种曝光机及其调整方法,用以解决现有技术中存在的Mura问题。本专利技术实施例提供的一种曝光机,包括激光扫描部和载台;其中,所述激光扫描部设置有 ...
【技术保护点】
1.一种曝光机,其特征在于,包括激光扫描部和载台;其中,/n所述激光扫描部设置有多个激光头,且各所述激光头设置有对应的图像采集模块;/n所述载台面向所述激光扫描部一侧设置有与各所述激光头一一对应的对位标识,且各所述对位标识的中心位于同一直线;/n所述图像采集模块用于获取与其对应的所述激光头所对应的对位标识的图像。/n
【技术特征摘要】
1.一种曝光机,其特征在于,包括激光扫描部和载台;其中,
所述激光扫描部设置有多个激光头,且各所述激光头设置有对应的图像采集模块;
所述载台面向所述激光扫描部一侧设置有与各所述激光头一一对应的对位标识,且各所述对位标识的中心位于同一直线;
所述图像采集模块用于获取与其对应的所述激光头所对应的对位标识的图像。
2.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述对位标识位于所述载台的非承载区域。
3.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述对位标识的材质的热膨胀系数小于1。
4.如权利要求3所述的曝光机,其特征在于,所述对位标识的材质包括石英材质。
5.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,各所述对位标识的图案一致。
6.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,各所述对位标识的大小相同。
7.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述对位标识的图案为中心对称图形。
8.如权利要求7所述的曝光机,其特征在于,所述对位标识的图案为十字型。
9.如权利要求1-7任一项所述的曝光机,其特征在于,所述激光扫描部还包括与各所述激光头一一对应的X向调节马达和Y向调节马达;
所述X向调节马达和所述Y向调节马达用于根据所述图像采集模块获取的所述图像的中心点位置与所述图像中的对位标识的中心点位置来调节所述激光头的位置。
10.一种如权利要求1-9任一项所述的曝光机的调整方法,其特征在于,包括:
控制各图像采集单元获取与对应的所述激光头所对应的对位标识的图像;
根据获取所述图像的中心点位置与所述图像中的对位标识的中心点位置,对所述激光头进行位置调整。
11.如权利要求10所述的调整方法,其特征在于,根据获取所述图像的中心点...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯京,栾兴龙,王志冲,刘鹏,李付强,袁广才,董学,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。