靶材溅射装置及其成膜装置制造方法及图纸

本申请公开一种靶材溅射装置，包括：用于支撑靶材的支撑壳体；所述支撑壳体背对所述靶材的一侧设有两个或更多个用于输入溅射气体的气体输入部；所述支撑壳体设有所述靶材的一侧具有用于输出所述溅射气体的气体输出部；至少两个所述气体输入部位于所述支撑壳体的不同位置。本申请所提供的一种靶材溅射装置及其成膜装置能够在校正膜厚的基础上，避免降低溅射效率。

【技术实现步骤摘要】
靶材溅射装置及其成膜装置
本申请涉及真空镀膜设备领域，尤其涉及一种靶材溅射装置及其成膜装置。
技术介绍
目前，在真空容器内使用等离子化的反应性气体进行基板上的薄膜形成、所形成的薄膜的表面改质、蚀刻等的等离子处理。例如，以下技术是公知的：使用溅射技术在基板上形成由金属不完全反应物构成的薄膜，使该由不完全反应物构成的薄膜与等离子化的反应性气体接触，形成由金属化合物构成的薄膜。目前，成膜装置的真空容器内具有成膜区域及反应区域。在成膜区域中，在工作气体的环境下，对由金属构成的靶材进行溅射，进行溅射粒子的堆积和基于溅射等离子体的等离子处理，形成金属或金属的不完全反应物构成的连续的中间薄膜或不连续的中间薄膜。在反应区域中，使在含有反应性气体的环境下产生的等离子体中的、反应性气体的活性物质与移动来的基板的中间薄膜接触而发生反应，将所述中间薄膜转换为由金属的完全反应物构成的连续的超薄膜。
技术实现思路
技术问题：图5为目前的一种靶材溅射装置结构示意图。在该靶材溅射装置的外侧具有输入溅射气体的管道，该管道连接于靶材溅射装置的居中部位，向靶材溅射装置内部输入气体。在靶材溅射装置负载靶材51的一侧在围绕靶材51的周向具有输出口。但是，由于靶材51周向的输出口输出的气量不同，导致靶材51不同区域的消耗量不同，进而导致薄膜的膜厚分布均匀性较差，以及靶材51的不均匀消耗。为调整膜厚分布，靶材溅射装置在靶材51的两侧设置校正板50，通过校正板50的阻挡作用，来校正膜厚分布，以期望达到膜厚均匀的效果。校正板50是通过将所处位置的气体量阻挡减少，以平衡气体输出量，虽然可以调整膜厚，但是会提升气体输出的阻力，从而会将溅射效率发生不期望的减小。另外，在利用校正板50校正膜厚的过程中，由于校正板50位于靶材51被溅射表面的前方(注：朝向基板一侧为前)，因此，校正板50会在溅射粒子的溅射方向上形成阻挡，导致溅射的效率减小。还有，由于校正板50位于靶材51被溅射表面的前方，溅射粒子同样会再校正板50的表面形成堆积镀膜，这同样会导致溅射粒子的浪费。鉴于上述技术问题，本申请的一个目的是提供一种靶材溅射装置及其成膜装置，以能够在校正膜厚的基础上，避免降低溅射效率。一种靶材溅射装置，包括：用于支撑靶材的支撑壳体；所述支撑壳体背对所述靶材的一侧设有两个或更多个用于输入溅射气体的气体输入部；所述支撑壳体设有所述靶材的一侧具有用于输出所述溅射气体的气体输出部；至少两个所述气体输入部位于所述支撑壳体的不同位置。作为一种优选的实施方式，每个所述气体输入部相互独立。作为一种优选的实施方式，至少一个所述气体输入部的气体流量可控。作为一种优选的实施方式，至少两个所述气体输入部沿所述靶材的长度方向排列。作为一种优选的实施方式，在所述支撑壳体沿所述靶材宽度方向的中间位置，至少两个所述气体输入部沿所述靶材的长度方向排列。作为一种优选的实施方式，所述气体输出部设置在所述靶材沿宽度方向的两侧。作为一种优选的实施方式，所述气体输入部连接有进气管；所述进气管设有流量调节器、以及连通有气源。作为一种优选的实施方式，至少两个所述气体输入部连接同一气源。一种成膜装置，包括：真空容器；用于保持基板的基板保持单元；如上任一实施方式所述靶材溅射装置；所述靶材溅射装置能够通过溅射气体从靶材释放出溅射粒子到达所述基板。作为一种优选的实施方式，所述基板保持单元围绕一转轴转动；所述靶材溅射装置的至少两个气体输入部沿所述转轴的轴向分布。作为一种优选的实施方式，所述靶材溅射装置可关闭打开地安装于所述真空容器上。有益效果：本申请所提供的靶材溅射装置的气体输入部通过位于支撑壳体的不同位置，可以降低单个输入口到气体输出部不同部位因存在距离远近不同形成的气体输出状态差异，保证气体输出部输出气体状态的均匀性，从而提升薄膜的膜厚均匀程度。并且，本实施例所提供的靶材溅射装置无需在气体输出部前方设置校正板，从而可以避免对溅射效率的影响，保证成膜速率。参照后文的说明和附图，详细公开了本技术的特定实施方式，指明了本技术的原理可以被采用的方式。应该理解，本技术的实施方式在范围上并不因而受到限制。针对一种实施方式描述和/或示出的特征可以以相同或类似的方式在一个或更多个其它实施方式中使用，与其它实施方式中的特征相组合，或替代其它实施方式中的特征。应该强调，术语“包括/包含”在本文使用时指特征、整件、步骤或组件的存在，但并不排除一个或更多个其它特征、整件、步骤或组件的存在或附加。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本申请一个实施例所提供的靶材溅射装置结构示意图；图2是图1的外部视图；图3是图1的剖视图；图4是本申请另一个实施例所提供的靶材溅射装置结构示意图；图5为传统例中的一种靶材溅射装置结构示意图。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本技术中的技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的另一个元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中另一个元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参阅图1。本申请一个实施例提供一种靶材溅射装置，包括：用于支撑靶材20的支撑壳体1。所述支撑壳体1背对所述靶材20的一侧设有两个或更多个用于输入溅射气体的气体输入部2。所述支撑壳体1设有所述靶材20的一侧具有用于输出所述溅射气体的气体输出部3；至少两个所述气体输入部2位于所述支撑壳体1的不同位置。在本实施例所提供的靶材溅射装置中，所述气体输入部2可以位于所述支撑壳体1背面(背对靶材20的表面)的气体输入口或者气体输入连接端。气体输入部2通过位于支撑壳体1的不同位置，可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种靶材溅射装置，其特征在于，包括：/n用于支撑靶材的支撑壳体；所述支撑壳体背对所述靶材的一侧设有两个或更多个用于输入溅射气体的气体输入部；所述支撑壳体设有所述靶材的一侧具有用于输出所述溅射气体的气体输出部；至少两个所述气体输入部位于所述支撑壳体的不同位置。/n

【技术特征摘要】
1.一种靶材溅射装置，其特征在于，包括：
用于支撑靶材的支撑壳体；所述支撑壳体背对所述靶材的一侧设有两个或更多个用于输入溅射气体的气体输入部；所述支撑壳体设有所述靶材的一侧具有用于输出所述溅射气体的气体输出部；至少两个所述气体输入部位于所述支撑壳体的不同位置。


2.如权利要求1所述的靶材溅射装置，其特征在于：每个所述气体输入部相互独立。


3.如权利要求1所述的靶材溅射装置，其特征在于：至少一个所述气体输入部的气体流量可控。


4.如权利要求1-3任一所述的靶材溅射装置，其特征在于：至少两个所述气体输入部沿所述靶材的长度方向排列。


5.如权利要求4所述的靶材溅射装置，其特征在于：在所述支撑壳体沿所述靶材宽度方向的中间位置，至少两个所述气体输入部沿所述靶材的长度方向排列。


6.如权利要求1所述的靶材溅...

【专利技术属性】
技术研发人员：长江亦周，菅原卓也，宫内充祐，山本摄也，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：新型
国别省市：日本;JP