光刻物镜分辨力与传函测试装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光刻物镜分辨力与传函测试装置，它克服了现有物镜测试仪器只能测试尺寸重量小、测试时可卧倒放置、精度较低的常规小型物镜的缺点。它由减振基板、大支架、照明系统、测试板、显微物镜和ＣＣＤ接收器连接而成的图象接收器、显示器和存储示波器组成，被测光刻物镜竖直放置在支架水平台上，通过更换装置的垫块和照明系统，方便地测试各种共轭距、尺寸重量、工作波长的需要竖直测试的高分辨力光刻物镜。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是一种光刻物镜分辨力与传函测试装置，属于投影光刻机光刻物镜高分辨力成像系统的像质测试
IC制造设备投影光刻机要求具有很高的光刻分辨力，而光刻分辨力主要由光刻物镜决定，分辨力越高要求数值孔径越大，因此物镜的光学及机械结构很复杂，外型尺寸很大，共轭距长达一米或更多，重量达50～500公斤，并且由于自身结构和光刻机整机要求，物镜只能竖放。物镜装配完成，将装上整机前，必须进行物镜像质测试。由于光刻物镜加工装配精度很高，受应力变形影响也很敏感，因此测试像质时，必须保证光刻物镜处于与工作时相同的竖直放置状态。而目前采用的像质测试仪器传函测试仪一般都要求被测物镜卧式放置。如较为著名的美国OPTIKOS公司MARKⅢ传函仪其光学系统光轴与底座平行，传函仪与被测物镜安放在光俱座或平台上，测试光线通过卧式放置的被测物镜，成像于传函仪的光电倍增管探测器上，采用扫描和自相关法，综合计算出传函曲线。而常规检测物镜成像质量常常采用传统的鉴别率板、星点、刀口阴影相结合的方法测试，综合分析判断像质。由于其结构和测试方法的限制，上述的测试装置都存在测试精度较低、被测物镜范围受限的缺点，只适合尺本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻物镜分辨力与传函测试装置，由放置在减振大基板（１）的大支架（２）的水平台面固定大垫块（１５），以支撑照明系统（１４），显微物镜（７）和ＣＣＤ接收器（４）组成图象接收系统，与图象显示器（９）以及存储示波器（１７）连接，其特征在于：大支架（２）水平台面上竖直放置的被测物镜（１０）的物方端面放置标准垫块（１１），水平支撑测试板（１２），板上的分辨力与传函测试图形由被测物镜（１０）投影成像于像面Ｗ′Ｗ′平面。连接架（５）将显微物镜（７）固定在三维调整架（３）上，显微物镜（７）调焦于被测物镜（１０）像面Ｗ′Ｗ′平面。分辨力测试在显示器（９）上观测，传函测试数据由存储示波器（１７）记录读数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈旭南，何上封，魏全忠，李展，陈元培，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：51[中国|四川]