真空等离子处理系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种真空等离子处理系统，包括传送机构、等离子处理腔体、驱动机构、用于上料的第一机械手和用于下料的第二机械手，所述等离子处理腔体包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体设置于所述传送机构上，且所述传送机构带动所述第一腔体运动，所述第二腔体设置于所述传送机构的上方，所述驱动机构驱动所述第二腔体向第一腔体运动以实现等离子处理腔体的合体或分离。无需人工操作，整个过程均可自动进行，处理效率高，且处理效果好。

【技术实现步骤摘要】
真空等离子处理系统
本技术涉及等离子处理
，尤其涉及一种真空等离子处理系统。
技术介绍
等离子处理设备可以对物体的表面进行清洁，是可高效除去油脂和添加剂的器械，等离子处理设备已广泛运用于纺织行业、印刷包装行业和数码行业等，等离子处理设备可以使经过处理的物体表面活化，有益于物品的储存。但是现有的等离子处理设备，只能将产品单独放入等离子处理机内部进行处理，产品的放入和拿出都需要人工操作，降低了处理效率，且人工拿放会使经过处理的产品表面因为被人触碰而受到污染，降低了处理效果。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是：提供一种全自动化的真空等离子处理系统，处理效率高。为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：一种真空等离子处理系统，包括传送机构、等离子处理腔体、驱动机构、用于上料的第一机械手和用于下料的第二机械手，所述等离子处理腔体包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体设置于所述传送机构上，且所述传送机构带动所述第一腔体运动，所述第二腔体设置于所述传送机构的上方，所述驱动机构驱动所述第二腔体向第一腔体运动以实现本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空等离子处理系统，其特征在于，包括传送机构、等离子处理腔体、驱动机构、用于上料的第一机械手和用于下料的第二机械手，所述等离子处理腔体包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体设置于所述传送机构上，且所述传送机构带动所述第一腔体运动，所述第二腔体设置于所述传送机构的上方，所述驱动机构驱动所述第二腔体向第一腔体运动以实现等离子处理腔体的合体或分离。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空等离子处理系统，其特征在于，包括传送机构、等离子处理腔体、驱动机构、用于上料的第一机械手和用于下料的第二机械手，所述等离子处理腔体包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体设置于所述传送机构上，且所述传送机构带动所述第一腔体运动，所述第二腔体设置于所述传送机构的上方，所述驱动机构驱动所述第二腔体向第一腔体运动以实现等离子处理腔体的合体或分离。


2.根据权利要求1所述的真空等离子处理系统，其特征在于，还包括真空发生装置，所述真空发生装置与所述等离子处理腔体连通。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗弦，
申请(专利权)人：深圳市诚峰智造有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44