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本实用新型公开了一种真空等离子处理系统，包括传送机构、等离子处理腔体、驱动机构、用于上料的第一机械手和用于下料的第二机械手，所述等离子处理腔体包括第一腔体和第二腔体，所述第一腔体设置于所述传送机构上，且所述传送机构带动所述第一腔体运动，所述...
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