具量子点的像素基板及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种具量子点的像素基板及其制作方法，该具量子点的像素基板，包含：一透明基板；一黑矩阵层，形成于该透明基板的表面，定义多个像素空间；多个量子点胶层，分别形成于该像素空间中；及其中，该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成，且与该透明基板形成一小于90度的夹角，而使该些像素空间构成一倒梯形的碗状结构。通过本发明专利技术，实现了用最简易制程制作具量子点的像素基板，并让量子点灌注容易，生产良率提高，进一步可加速量子点运用于显示技术进程的特殊技术功效。

【技术实现步骤摘要】
具量子点的像素基板及其制作方法
本专利技术关于一种量子点技术，特别关于一种具量子点的像素基板及其制作方法。
技术介绍
量子点(QuantumDots)作为平面显示器技术的应用材料已经成为下一代显示技术的显学。量子点有以下的特色，其转换光谱可随尺寸调整(通过调整量子点的奈米晶体大小，尺寸在1nm至20nm之间)、发光效率高、发光稳定性好等光学性能。并且，量子点大多为无机化合物，其性能稳定，具有耐久性佳的特色。使得量子点技术成为下一代显示技术的关注重点。目前，已经有厂商发展出量子点发光二极管(QuantumDotsLightEmittingDiodes,QD-LEDs)、量子点有机发光二极管(QuantumDotsOrganicLightEmittingDiodes,QD-LEDs)等显示技术。目前的发展，主要是利用发光二极管或有机发光二极管的发光来作为量子点的光源，让其转换到想要发光的频谱。无论是哪一种应用手段，由于量子点的制程技术与发光二极管或有机发光二极的制程大不相同，因此，由量子点所构成的像素基板的制作，目前尚须与两者的制程分开。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具量子点的像素基板，其特征在于，包含：/n一透明基板；/n一黑矩阵层，形成于该透明基板的表面，定义多个像素空间；/n多个量子点胶层，分别形成于该像素空间中；及/n其中，该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成，且该黑矩阵层与该透明基板形成一小于90度的夹角，而使该多个像素空间构成一倒梯形的碗状结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种具量子点的像素基板，其特征在于，包含：
一透明基板；
一黑矩阵层，形成于该透明基板的表面，定义多个像素空间；
多个量子点胶层，分别形成于该像素空间中；及
其中，该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成，且该黑矩阵层与该透明基板形成一小于90度的夹角，而使该多个像素空间构成一倒梯形的碗状结构。


2.如权利要求1所述的具量子点的像素基板，其特征在于，该黑矩阵层的厚度介于1.5um至10um之间。


3.如权利要求1所述的具量子点的像素基板，其特征在于，该黑矩阵层的厚度介于10um至20um之间。


4.如权利要求1所述的具量子点的像素基板，其特征在于，该夹角的角度介于45度至90度之间。


5.如权利要求1所述的具量子点的像素基板，其特征在于，该夹角的角度介于60度至85度之间。


6.如权利要求2或3所述的具量子点的像素基板，其特征在于，该多个量子点胶层的厚度小于该黑矩阵层，且介于1um至15um之间。


7.如权利要求2或3所述的具量子点的像素基板，其特征在于，该多个量子点胶层的厚度小于该黑矩阵层，且介于1um至9um之间。


8.一种具量子点的像素基板的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：许铭案，林佳慧，许睿哲，
申请(专利权)人：恒煦电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71