一种可移动的光刻板固定夹具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种可移动的光刻板固定夹具，涉及半导体制备设备技术领域，包括可移动的支撑台和若干组真空吸附装置，涉及半导体制备设备技术领域，所述支撑台上开设有圆形通孔，所述真空吸附装置沿所述通孔的周向均匀的设在支撑台的上端面；光刻板通过真空吸附装置居中的吸附在支撑台的下端面。每组所述真空吸附装置包括若干个与所述通孔同轴设置的通透真空孔，每组真空吸附装置中的真空孔上端面设有一个与支撑台吸附的真空吸盘；所述真空吸盘的底部中心设有与该组真空孔连通的真空管；所有真空管的末端与一个真空开关连接。该固定夹具不仅便于调整光刻板位置、而且使用方便快捷，能根据需要随时移动到指定位置。

【技术实现步骤摘要】
一种可移动的光刻板固定夹具
本技术涉及半导体制备设备
，特别地，涉及到一种可移动的光刻板固定夹具。
技术介绍
在半导体制造中，芯片的制作一般都要采用基片的光刻技术；用于这些步骤的图形“底片”称为光刻板(也称作掩膜板)，其作用是：在基片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。实验和生产中基片的位置固定不动时，光刻板的图形需要根据具体要求进行调整；但是目前用于固定光刻板的真空吸盘及真空槽是设在光刻机上的，光刻机位置固定，从而限制了光刻板的移动。因此迫切需要一种可移动的光刻板固定夹具。
技术实现思路
本技术针对现有技术中存在的上述技术问题，提供了一种可移动的光刻板固定夹具。该夹具不仅便于调整光刻板位置、而且使用方便快捷，能根据需要随时移动到指定位置。本技术为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：一种可移动的光刻板固定夹具，包括底面积大于光刻板面积的可移动的支撑台和若干组真空吸附装置，所述支撑台上开设有圆形通孔，所述真空吸附装置沿所述通孔的周向均本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可移动的光刻板固定夹具，其特征在于：包括底面积大于光刻板面积的可移动支撑台和若干组真空吸附装置，所述支撑台上开设有圆形通孔，所述真空吸附装置沿所述通孔的周向均匀的设在支撑台的上端面；光刻板通过真空吸附装置居中的吸附在支撑台的下端面。/n

【技术特征摘要】
1.一种可移动的光刻板固定夹具，其特征在于：包括底面积大于光刻板面积的可移动支撑台和若干组真空吸附装置，所述支撑台上开设有圆形通孔，所述真空吸附装置沿所述通孔的周向均匀的设在支撑台的上端面；光刻板通过真空吸附装置居中的吸附在支撑台的下端面。


2.如权利要求1所述的可移动的光刻板固定夹具，其特征在于：每组所述真空吸附装置包括若干个与所述通孔同轴设置的通透真空孔，每组真空吸附装置中的真空孔上端面设有一个与支撑台吸附的真空吸盘；所述真空吸盘的底部中心设有与该组真空孔连通的真空管；所有真空管的末端与一个真空开关连接。


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【专利技术属性】
技术研发人员：曲迪，闫青芝，陈墨，白国人，宋学颖，靳春艳，
申请(专利权)人：天津华慧芯科技集团有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12