一种基座用轴传动装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及半导体制造设备技术领域，尤其涉及硅外延生长设备的一种基座用轴传动装置。包括旋转机构、调整机构、升降机构、内轴和外轴；内轴和外轴为圆管状，内轴套在外轴内。磁流体内旋转轴外设有磁流体外环；磁流体内旋转轴上耦接旋转驱动器，带动磁流体的内旋转轴及外轴旋转；升降机构耦接内轴，升降机构包括上下驱动器和内轴固定板，上下驱动器固定端耦接固定在磁流体的内旋转轴上；上下驱动器的运动端与内轴固定板固定连接，内轴底部外套设有波纹管，波纹管件上端固定在外轴底端，下端固定在内轴固定板上。本实用新型专利技术通过该结构，可实现外轴及内轴同时旋转，及内轴的可升降功能。

【技术实现步骤摘要】
一种基座用轴传动装置
本技术涉及半导体制造设备
，尤其涉及硅外延生长设备的一种基座用轴传动装置。
技术介绍
随着半导体设备的制造商向大型化转变，即直径为6至8英寸或更大，单片式沉积设备比多片式设备更受欢迎。在单片式处理设备中使用的伯努利棒的拾取装置，只适用于小直径的晶片，无法满足12寸及以上的晶片的需求。对此，有了满足不同尺寸晶片的晶片传送方式：晶片插取机构从料盒中插取晶片，将晶片搬运到反应室基座上方，基座由内环基座和外环基座组成，内环基座上升，将晶片顶升，晶片脱离插取机构，装载在内环基座上，插取机构退出反应室，内环基座带着晶片下降，内环基座降置于外环基座内，晶片装载在外环基座上；反应时，内外环基座带着晶片同时旋转；反应结束，旋转停止，内环基座带着晶片上升，插取机构伸入反应室，且在内外环基座之间，内环基座下降，晶片放置于插取机构上，插取机构带着晶片退出反应室，将晶片放回料盒中。根据晶片传送处理的特定方式或环境，提出了一种基座用轴传动装置。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是，克服现有技术中的不足，提供一种基座用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基座用轴传动装置，其特征在于，包括旋转机构、调整机构、升降机构、内轴和外轴；内轴和外轴为圆管状，内轴套在外轴内；/n所述旋转机构耦接外轴，旋转机构包括磁流体内旋转轴，磁流体内旋转轴套设并密封固定在外轴中部，磁流体内旋转轴外设有磁流体外环；磁流体内旋转轴上耦接旋转驱动器，带动磁流体的内旋转轴及外轴旋转；/n所述调整机构包括设于所述磁流体的外环上的升降板，下调整盘、中间调整盘、上调整盘、波纹管盘通过螺栓连接，从下往上叠加安装在升降板上；下调整盘和中间调整盘设于磁流体外环外部，磁流体外环通过螺栓与中间调整盘固定连接，上调整盘和波纹管盘套设在所述外轴外部；导向轴两端均设有导向轴固定块，导向轴底...

【技术特征摘要】
1.一种基座用轴传动装置，其特征在于，包括旋转机构、调整机构、升降机构、内轴和外轴；内轴和外轴为圆管状，内轴套在外轴内；
所述旋转机构耦接外轴，旋转机构包括磁流体内旋转轴，磁流体内旋转轴套设并密封固定在外轴中部，磁流体内旋转轴外设有磁流体外环；磁流体内旋转轴上耦接旋转驱动器，带动磁流体的内旋转轴及外轴旋转；
所述调整机构包括设于所述磁流体的外环上的升降板，下调整盘、中间调整盘、上调整盘、波纹管盘通过螺栓连接，从下往上叠加安装在升降板上；下调整盘和中间调整盘设于磁流体外环外部，磁流体外环通过螺栓与中间调整盘固定连接，上调整盘和波纹管盘套设在所述外轴外部；导向轴两端均设有导向轴固定块，导向轴底端的导向轴固定块通过螺杆与升降板相连，螺杆下部固定安装手轮；
所述升降机构耦接内轴，升降机构包括上下驱动器和内轴固定板，上下驱动器固定端耦接固定在磁流体的内旋转轴上；上下驱动器的运动端与固设于外轴下端的内轴固定板固定连接，内轴底部外套设有波纹管件，波纹管件上端固定在外轴底端，波纹管件下端密封固定在内轴固定板上；内轴固定板下端有一圆管，内轴穿过圆管，圆管外侧有外螺纹，螺纹连接压紧螺母的内螺纹，通过之间的o型圈将内轴密封连接在升降机构上；上下驱动器通过内轴固定板带动内轴升降作用。


2.根据权利要求1所述的一种基座用轴传动装...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈文杰，朱亮，董医芳，祝广辉，汤承伟，俞城，麻鹏达，周航，章杰峰，
申请(专利权)人：浙江求是半导体设备有限公司，浙江晶盛机电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33