一种硅片自动上粉的装置和方法制造方法及图纸

技术编号:25348546 阅读:35 留言:0更新日期:2020-08-21 17:07
本发明专利技术提供了一种硅片自动上粉的装置和方法。该装置包括:传输设备、刮粉板、上粉设备;其中,上粉设备用于将玻璃糊涂覆在硅片上,上粉设备包括超声设备和储罐,储罐用于盛装玻璃糊,超声设备用于超声处理储罐内的材料;传输设备用于传送硅片,用于将硅片送入储罐的玻璃糊内,并将上粉后的硅片由玻璃糊中带离,经过刮粉板,去除上粉后硅片表面多余的玻璃糊。本发明专利技术还提供了通过上述自动上粉装置完成的自动上粉方法。本发明专利技术的自动上粉装置和方法的玻璃膜涂覆均匀,对钝化区域保护较好,自动化程度高,效率高。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片自动上粉的装置和方法
本专利技术涉及一种制备玻璃钝化二极管时,硅片的自动上粉的装置和方法,属于玻璃钝化二极管制备

技术介绍
GPP是玻璃钝化类器件的统称,现泛指玻璃钝化二极管。玻璃钝化二极管主要是以单晶硅片为原材料,对单晶硅片进行扩散、光刻蚀刻、刮涂、清晰、开沟、去胶、上粉、钝化、烧结、点测、切割、裂片等加工工序得到的。在玻璃钝化二极管的制备过程中,上粉是直接影响玻璃钝化二极管的品性的重要步骤。现有的硅片上粉方法主要有手术刀法、电泳法、光阻法。其中,手术刀法是使用塑料棒粘取玻璃糊,通过刀片将玻璃糊刮至槽内,后续进行低温去除有机物,擦拭表面玻璃膜,然后进行高温烧结。该方法的涂覆不均匀,表面易擦伤,属于劳动密集型作业模式,劳动强度大。电泳法是通过超声的方式,将玻璃粉均匀混合在丙酮内,通过灯管照射玻璃粉,提高玻璃粉带电粒子活性,并在电场作用下,定向往裸露的硅运动,进而覆盖槽内,后续高温烧结,起到钝化作用。该方法的槽边缘存在突台,影响封装及后需产品工艺过程(突台引起光刻板破损),工艺过程对硅片表面要求较高,易出本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片自动上粉的装置,该装置包括:传输设备、刮粉板、上粉设备;其中,/n上粉设备用于将玻璃糊涂覆在硅片上,上粉设备包括超声设备和储罐,储罐用于盛装玻璃糊,超声设备用于超声处理储罐内的材料;/n传输设备用于传送硅片,用于将硅片送入储罐的玻璃糊内,并将上粉后的硅片由玻璃糊中带离,经过刮粉板,去除上粉后硅片表面多余的玻璃糊。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅片自动上粉的装置,该装置包括:传输设备、刮粉板、上粉设备;其中,
上粉设备用于将玻璃糊涂覆在硅片上,上粉设备包括超声设备和储罐,储罐用于盛装玻璃糊,超声设备用于超声处理储罐内的材料;
传输设备用于传送硅片,用于将硅片送入储罐的玻璃糊内,并将上粉后的硅片由玻璃糊中带离,经过刮粉板,去除上粉后硅片表面多余的玻璃糊。


2.根据权利要求1所述的装置,其中,传输设备包括两个转动轮和传送带,转动轮带动传送带传动;传送带用于传送硅片。


3.根据权利要求2所述的装置,其中,储罐设置在两个转动轮之间;
优选地,储罐内设置有滑轮,滑轮用于使传送带经过玻璃糊。


4.根据权利要求2所述的装置,其中,所述传送带为由聚四氟乙烯制成的皮带。


5.根据权利要求1所述的装置,其中,刮粉板的长度为12cm-15cm,宽度为1cm-2cm,高度为1.5cm-3cm。


6.一种硅片自动上粉的方法,该方法是通过权利要求1-5任一项所述的硅片自动上粉的装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:沈怡东周榕华钱如意
申请(专利权)人:捷捷半导体有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1