一种硅表面胶处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅表面胶处理装置，属于硅表面处理技术领域，包括上料机构，上料机构连通有处理机构，处理机构连通有下料机构；所述处理机构包括底座，底座上由前至后依次设置有加热炉和冷却炉；所述上料机构的输出端与加热炉的输入端连通，所述加热炉的输出端与冷却炉的输入端连通，冷却炉的输出端与下料机构的输入端连通。本实用新型专利技术填补了目前市场上没有相关处理装置的空白，促进硅回收利用的良好展开，保证硅行业的可持续良性发展。

【技术实现步骤摘要】
一种硅表面胶处理装置
本技术涉及硅表面处理
，具体涉及一种硅表面胶处理装置。
技术介绍
由于硅独特的结构，兼备了无机材料与有机材料的性能，具有表面张力低、粘温系数小、压缩性高、气体渗透性高等基本性质，并具有耐高低温、电气绝缘、耐氧化稳定性、耐候性、难燃、憎水、耐腐蚀、无毒无味以及生理惰性等优异特性，广泛应用于航空航天、电子电气、建筑、运输、化工、纺织、食品、轻工、医疗等行业。随着硅数量和品种的持续增长，应用领域不断拓宽，形成化工新材料界独树一帜的重要产品体系，许多品种是其他化学品无法替代而又必不可少的。硅使用时，多会用到溶胶、树脂胶进行固定，所以硅在回收后，需要进行表面胶处理，硅的回收利用是节约资源的重要手段，但目前市场上还未有硅表面胶处理的相关技术，十分影响硅回收利用的大规模推广，不利于硅行业的可持续发展。
技术实现思路
针对现有技术的上述不足，本技术提供一种硅表面胶处理装置；该硅表面胶处理装置填补了目前市场上没有相关处理装置的空白，促进硅回收利用的良好展开，保证硅行业的可持续良性发展。为了解决上述技术问题，本技术提供的一种硅表面胶处理装置，包括上料机构，上料机构连通有处理机构，处理机构连通有下料机构；所述处理机构包括底座，底座上由前至后依次设置有加热炉和冷却炉；所述上料机构的输出端与加热炉的输入端连通，所述加热炉的输出端与冷却炉的输入端连通，冷却炉的输出端与下料机构的输入端连通。本技术进一步改进中，上述加热炉包括加热机架，加热机架上设置有轴承座，轴承座连接有加热炉体，加热炉体的下方设置有加热装置；所述加热炉体的一端设置有齿圈，齿圈连接有驱动齿轮，驱动齿轮连接有驱动电机。通过上述设计，本方案的加热炉可得到更均匀的加热，使用时，驱动电机启动，驱动齿轮转动，加热炉体在也其齿圈的带动下转动，得到更均匀的加热。本技术进一步改进中，上述加热炉体两端分别设置有吸气罩，吸气罩内设置有排气扇，吸气罩连通有布袋除尘器，布袋除尘器连通有活性炭罐，活性炭罐连通有烟囱。通过上述设计，本方案可更好的保护环境，树脂胶、溶胶为有机物，因此在加热时，会产生有害气体，污染环境，通过上述布袋除尘器和活性炭罐将产生的气体过滤后，再排放的大气中，避免污染大气。本技术进一步改进中，上述加热装置为天然气灶，所述加热炉体内的温度范围为400℃～800℃。通过上述设计，本方案可很好的降低使用成本，使用者如果经济允许，此处也可使用电加热或其他加热方式。本技术进一步改进中，上述加热炉体与地面的夹角为3°～10°。通过上述设计，本方案加热炉体内的硅的下料可更加顺畅，避免堆积在炉体内，影响硅受热。本技术进一步改进中，上述冷却炉包括冷却机架，冷却机架上设置有轴承座，轴承座连接有冷却炉体，冷却炉体内设置有螺旋式冷却水道；所述冷却炉体的一端设置有齿圈，齿圈连接有驱动齿轮，驱动齿轮连接有驱动电机。通过上述设计，本方案的冷却炉可得到更均匀的冷却，使用时，驱动电机间歇性的正反转(可避免与螺旋式冷却水道相连的进水管和出水管缠绕)，驱动齿轮跟着转动，冷却炉体在也其齿圈的带动下转动，得到更均匀的冷却。本技术进一步改进中，上述冷却炉体与地面的夹角为3°～15°。通过上述设计，本方案冷却炉体内的硅的下料可更加顺畅，避免堆积在炉体内，影响硅冷却。本技术进一步改进中，上述加热炉体与冷却炉体之间设置有接料板。通过上述设计，本方案可更好的避免硅从加热炉运动至冷却炉时漏料，避免资源浪费。本技术进一步改进中，上述冷却炉体的端头设置有进水口和出水口，进水口与螺旋式冷却水道的一端连通，出水口与螺旋式冷却水道的另一端连通。通过上述设计，本方案可更好的保证冷却效果，使用时，冷却纯水会源源不断的从进水口进入螺旋式冷却水道，从出水口出来，保证硅得到更好的热交换。本技术进一步改进中，上述上料机构采用振动给料机，下料机构采用振动筛分机。通过上述设计，本方案直接使用现有技术中的振动给料机和振动筛分机，可更好的降低研发经费，具体型号的选择，使用者根据经济要求而定，比如振动给料机可选择ZSW-380X95，ZSW-600X130等型号，振动筛分机可选DH-600-2P等。与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：本技术填补了目前市场上没有相关处理装置的空白，促进硅回收利用的良好展开，保证硅行业的可持续良性发展。本方案利用上料机构、加热炉、冷却炉和下料机构对回收的硅进行表面胶处理，提高回收硅的使用质量，促进硅回收利用的良好展开，保证硅行业的可持续良性发展。附图说明为更清楚地说明
技术介绍
或本技术的技术方案，下面对现有技术或具体实施方式中结合使用的附图作简单地介绍；显而易见地，说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
所能涵盖的范围内。图1是本技术具体实施方式结构示意图。图2是本技术加热炉结构示意图。图3为本技术冷却炉结构示意图。图中所示：1-上料机构；2-底座；3-加热炉；301-加热机架；302-加热炉体；303-加热装置；4-接料板；5-冷却炉；501-冷却机架；502-冷却炉体；503-螺旋式冷却水道；6-下料机构；7-吸气罩；701-排气扇；8-轴承座；9-齿圈；10-驱动齿轮；11-驱动电机。具体实施方式为了使本
的人员更好的理解本技术中的技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围，同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“前”、“后”、“中间”等用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本技术可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本技术可实施的范畴。如图1所示，一种硅表面胶处理装置，包括上料机构1，上料机构1连通有处理机构，处理机构连通有下料机构；所述处理机构包括底座2，底座2上由前至后依次设置有加热炉3和冷却炉5；所述上料机构1的输出端与加热炉3的输入端连通，所述加热炉3的输出端与冷却炉5的输入端连通，冷却炉5的输出端与下料机构6的输入端连通。如图2所示，所述加热炉3包括加热机架301，加热机架301上设置有轴承座8，轴承座8连接有加热炉体302，加热炉体302的下方设置有加热装置303；所述加热炉体302的一端设置有齿圈9，齿圈9本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅表面胶处理装置，其特征在于：包括上料机构，上料机构连通有处理机构，处理机构连通有下料机构；所述处理机构包括底座，底座上由前至后依次设置有加热炉和冷却炉；所述上料机构的输出端与加热炉的输入端连通，所述加热炉的输出端与冷却炉的输入端连通，冷却炉的输出端与下料机构的输入端连通。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅表面胶处理装置，其特征在于：包括上料机构，上料机构连通有处理机构，处理机构连通有下料机构；所述处理机构包括底座，底座上由前至后依次设置有加热炉和冷却炉；所述上料机构的输出端与加热炉的输入端连通，所述加热炉的输出端与冷却炉的输入端连通，冷却炉的输出端与下料机构的输入端连通。


2.根据权利要求1所述的硅表面胶处理装置，其特征在于：所述加热炉包括加热机架，加热机架上设置有轴承座，轴承座连接有加热炉体，加热炉体的下方设置有加热装置；所述加热炉体的一端设置有齿圈，齿圈连接有驱动齿轮，驱动齿轮连接有驱动电机。


3.根据权利要求2所述的硅表面胶处理装置，其特征在于：所述加热炉体两端分别设置有吸气罩，吸气罩内设置有排气扇，吸气罩连通有布袋除尘器，布袋除尘器连通有活性炭罐，活性炭罐连通有烟囱。


4.根据权利要求2所述的硅表面胶处理装置，其特征在于：所述加热装置为天然气灶，所述加热炉体内的温度范围为400℃～800℃。


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【专利技术属性】
技术研发人员：石坚，李杰，于友，
申请(专利权)人：山东九思新材料科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：山东;37