本实用新型专利技术涉及机械技术领域，公开了一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪。基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，包括底盘和挡板组件，底盘上设有多个用于放置基片的承载部；挡板组件设置于底盘下方，挡板组件能相对底盘运动，且挡板组件用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。本实用新型专利技术提供的基片蒸镀承载盘中的挡板组件可以遮挡蒸镀图形使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形，使蒸镀仪能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。
【技术实现步骤摘要】
一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪
本技术涉及机械
，尤其涉及一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪。
技术介绍
真空热蒸发镀膜技术被广泛应用于机发光显示屏等平板显示器的制造中，该技术在相应薄膜器件产业化中的应用也十分广泛。其基本原理是利用加热的手段使待形成薄膜的原材料受热蒸发，由凝聚相变成气相，原材料的分子或原子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到基板(衬底)表面，最终蒸发的分子或原子在基板(衬底)上沉积，凝结形成固态薄膜。在有机发光显示装置中，发射可见光的有机发光层和接近有机发光层的有机层通过利用各种方法形成。尤其是真空沉积方法由于其简单的工艺而经常被使用。在真空沉积方法中，将粉状或固态的沉积材料填充到熔炉中，并通过对熔炉进行加热而在期望的区域上形成沉积膜。现有的基片蒸镀承载盘只能放置两个基片，并且蒸镀基片的种类少，基片蒸镀承载盘上的空间不能被充分利用。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪，能放置多个基片，并且蒸镀基片的种类多，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，包括：底盘，所述底盘上设有多个用于放置基片的承载部；挡板组件，设置于所述底盘下方，所述挡板组件能相对所述底盘运动，且所述挡板组件用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。优选地，所述挡板组件包括挡板和固定件，所述挡板与所述固定件滑动连接，所述挡板设有多个并沿所述底盘周向设置，且与所述承载部一一对应，所述挡板连接有驱动所述挡板相对所述底盘运动的驱动组件。优选地，所述挡板与所述底盘的底面平行且滑动连接，且所述挡板朝向或远离所述底盘的中心运动。优选地，所述底盘包括：掩膜盘，所述掩膜盘沿周向设置多个所述蒸镀图形，所述挡板设置于所述掩膜盘下方，且所述固定件与所述掩膜盘固定连接，且所述挡板用于遮挡所述蒸镀图形；基片盘，与所述掩膜盘同轴设置，且所述掩膜盘能相对所述基片盘转动。优选地，所述底盘包括基片盘，所述承载部设置在所述基片盘上，所述挡板组件设置于所述基片盘下方，且所述挡板组件能相对所述基片盘运动。优选地，所述挡板组件包括挡板，所述挡板设有多个并沿所述基片盘周向设置，且与所述承载部一一对应，所述挡板上设置多个所述蒸镀图形，所述挡板相对所述基片盘运动切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。优选地，所述挡板与所述基片盘转动连接，且所述挡板转动的轴线与所述基片盘的中心线平行，所述挡板沿周向设有多个所述蒸镀图形。优选地，所述挡板与所述基片盘滑动连接，且所述挡板朝向或远离所述基片盘的中心运动，所述挡板沿所述挡板的移动方向设置多个所述蒸镀图形。优选地，所述承载部包括开设在所述底盘上的凹槽，所述凹槽的槽底开有蒸镀孔，所述凹槽用于放置所述基片。一种真空蒸镀仪，包括上述的基片蒸镀承载盘。本技术的有益效果：本技术提供的基片蒸镀承载盘中的挡板组件可以遮挡蒸镀图形使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形，使蒸镀仪能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。本技术提供的真空蒸镀仪，采用上述的基片蒸镀承载盘，能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀的效率。附图说明图1是本技术实施例一提供的基片蒸镀承载盘的第一视角的结构示意图；图2是本技术实施例一提供的基片蒸镀承载盘的第二视角的结构示意图；图3是本技术实施例一提供的驱动组件的部分结构示意图；图4是本技术实施例二提供的基片蒸镀承载盘的第一视角的结构示意图；图5是本技术实施例二提供的基片蒸镀承载盘的第二视角的结构示意图；图6是本技术实施例二提供的挡板组件的结构示意图；图7是本技术实施例三提供的基片蒸镀承载盘的第一视角的结构示意图；图8是本本技术实施例三提供的基片蒸镀承载盘的第二视角的结构示意图。图中：11、基片盘；12、掩膜盘；2、承载部；21、凹槽；22、蒸镀孔；3、挡板组件；31、挡板；32、固定件；33、转轴；4、蒸镀图形；51、推杆；52、钩子结构件；53、把手。具体实施方式为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本技术实施例的技术方案做进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。实施例一本实施例提供了一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，该基片蒸镀承载盘能放置多个基片，并且蒸镀基片的种类多，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率。具体地，如图1和图2所示，该基片蒸镀承载盘包括底盘和挡板组件3，底盘上设有多个用于放置基片的承载部2，挡板组件3设置于底盘下方，挡板组件3能相对底盘运动，且挡板组件3用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4。在蒸镀过程中，挡板组件3可以遮挡蒸镀图形4使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形4，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。承载部2包括开设在底盘上的凹槽21，凹槽21的槽底开有蒸镀孔22，凹槽21用于放置基片。基片放置在凹槽21内，且基片需要蒸镀的一侧朝向蒸镀孔22，通过蒸镀孔22将蒸镀图形4蒸镀到基片上，结构简单，且方便取放基片。挡板组件3包括挡板31和固定件32，挡板31与固定件32滑动连接，挡板31设有多个并沿底盘周向设置，且与承载部2一一对应，能单独控制每个基片是否蒸镀。挡板31连接有驱动挡板31相对底盘运动的驱动组件。驱动组件驱动挡板31运动切换是否蒸镀与切本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，其特征在于，包括：/n底盘，所述底盘上设有多个用于放置基片的承载部(2)；/n挡板组件(3)，设置于所述底盘下方，所述挡板组件(3)能相对所述底盘运动，且所述挡板组件(3)用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形(4)。/n
【技术特征摘要】
1.一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，其特征在于，包括：
底盘，所述底盘上设有多个用于放置基片的承载部(2)；
挡板组件(3)，设置于所述底盘下方，所述挡板组件(3)能相对所述底盘运动，且所述挡板组件(3)用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形(4)。
2.根据权利要求1所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述挡板组件(3)包括挡板(31)和固定件(32)，所述挡板(31)与所述固定件(32)滑动连接，所述挡板(31)设有多个并沿所述底盘周向设置，且与所述承载部(2)一一对应，所述挡板(31)连接有驱动所述挡板(31)相对所述底盘运动的驱动组件。
3.根据权利要求2所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述挡板(31)与所述底盘的底面平行且滑动连接，且所述挡板(31)朝向或远离所述底盘的中心运动。
4.根据权利要求3所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述底盘包括：
掩膜盘(12)，所述掩膜盘(12)沿周向设置多个所述蒸镀图形(4)，所述挡板(31)设置于所述掩膜盘(12)下方，且所述固定件(32)与所述掩膜盘(12)固定连接，且所述挡板(31)用于遮挡所述蒸镀图形(4)；
基片盘(11)，与所述掩膜盘(12)同轴设置，且所述掩膜盘(12)能相对所述基片盘(11)转动。
5.根据权利要求1所述的基片蒸镀承载盘，其特征在于，所述底盘包括基片盘(1...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯亚青，朱文俊，张敬娣，梁舰，敬文华，冯敏强，廖良生，
申请(专利权)人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。