激光测量系统技术方案

技术编号:2520142 阅读:177 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种激光测量系统,其包括用于通过在旋转照射中投射激光束来形成激光基准面的激光旋转照射设备,和用于通过接收激光束来执行位置测量的光电探测设备,其中激光旋转照射设备包括激光束发射器、用于调节该激光束发射器的激光束的光量的发光量调节装置、和用于执行与所述光电探测设备的通信的第一通信装置,且其中光电探测设备包括用于探测基准面的光电探测器、用于执行去往和来自激光旋转照射设备的通信的第二通信装置、和用于计算来自光电探测器的光电探测信号是否位于预先确定的范围内的控制单元,其中第一通信装置传送激光旋转照射设备的激光束发射条件给第二通信装置,并且第二通信装置传送光电探测设备的光电探测条件给第一通信装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于通过从激光旋转照射设备在旋转照射中投射激光 束来形成基准面,通过光电探测设备(光接收设备)接收激光束,并 且测量操作位置等等的激光测量系统
技术介绍
在过去,激光旋转照射设备已被公认为是一种用于形成基准面以 在宽量程上为操作指示基准的设备,并且光电探测设备已被公认为是 一种用于接收激光束并测量基准面位置的设备。激光旋转照射设备通过在旋转照射中投射具有类点光通量的激光 束来形成基准面。例如,通过在位于水平面内的旋转照射中投射激光 束,水平基准面能够得以形成。当激光束在位于铅垂平面内的旋转照 射中投射时,铅垂基准面能够得以形成。当激光束在位于倾斜平面内 的旋转照射中投射时,倾斜基准面能够得以形成。光电探测设备具有用于接收并探测激光束的光电探测器。基于由 光电探测器探测到的激光束,水平基准面、铅垂基准面等等能够被测 出。激光测量系统能够通过将激光旋转照射设备和光电探测设备结合 起来而构成。使用由激光束形成的基准面的激光测量系统被用于从包 括土木工程在内的宽量程操作到例如房间内部装修之类的相对受限的 空间内的操作。在上述激光测量系统中,激光旋转照射设备的激光束的发光量由 预期的用途所确定。通常,激光束的发光量被设定为与激光旋转照射 设备类型的恒定值。另一方面,在激光旋转照射设备和光电探测设备 之间的距离很短的情况下,被光电探测设备所接收的光量很高。在这 一距离很长的情况下,被接收的光量很低。光电探测设备所接收的光 电探测光量随激光旋转照射设备和光电探测设备之间的距离变化而变 化。光电探测设备具有增益控制功能。甚至当所接收的激光束的光量 变化时,增益得到调节以使光电探测信号在预先确定的水平范围之内。在用于执行宽量程勘测操作的激光测量系统中,发光量被设定为较高的值,以使得即使当激光旋转照射设备和光电探测设备之间的距 离很远时,光电探测设备也能够识别到激光束已经被接收到。在这点 上,当光电探测设备在相对短的距离上接收激光束时,光电探测光量 过高,并且光电探测光量常常高于光电探测设备的光电探测信号放大 电路的增益控制功能的调节范围。结果,光电探测信号达到饱和。当激光测量系统用于短距测量时,激光测量系统常常如此设计, 即激光束的发光量能够由操作者手动改变,以避免光电探测信号的饱 和。此外,在使用激光测量系统的实际情况中,激光旋转照射设备在 操作进行的所有时间里都运转着。而且,激光束的光量以这样的方式 设定,即光量能够与远距操作相配。这意味着激光束以比短距操作所 需要的较高的光量被投射。这常常导致功耗的浪费。为解决上迷问题, 一种激光旋转照射设备被提出,其中安装光电 探测设备的位置被保存在存储器中,且激光束仅仅发射到临近这一位置的空间(JP-A-11-166832 )。但是,JP-A-11-166832中所公开的激光旋转照射设备在节能目的 上是不充分的,因为激光光量位于一个恒定水平上。在有多个操作点 的情况下,并不能达到实际的节能效果。此外,另一类激光旋转照射设备被提出,其中来自激光束投射到 的物体的反射光被接收,且激光束的光量能够基于光电探测光量而调 节为一个适当的值(JP-A-2006-214850 )。但是,根据JP-A-2006-214850中所公开的激光旋转照射设备,没 有提供光电探测设备。这意味着该系统仅仅能用于相对短距的操作中, 而不适于土木工程操作或类似的较宽量程的操作。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种激光测量系统,其可以通过使用单 个激光旋转照射设备执行从较窄的操作范围到相对较宽的操作范围的 测量操作,同时功耗保持在低水平。为实现上述目的,本专利技术提供一种激光测量系统,其包括用于通 过在旋转照射中投射激光束来形成激光基准面的激光旋转照射设备, 和用于通过接收激光束来执行位置测量的光电探测设备,其中该激光旋转照射设备包括激光束发射器、用于调节该激光束发射器的激光束 的光量的发光量调节装置、和用于执行与光电探测设备的通信的第一 通信装置,且其中光电探测设备包括用于探测基准面的光电探测器、 用于执行去往和来自激光旋转照射设备的通信的第二通信装置、和用 于计算来自光电探测器的光电探测信号是否位于预先确定的范围内的 控制单元,其中第一通信装置传送激光旋转照射设备的激光束发射条 件给第二通信装置,以及笫二通信装置传送光电探测设备的光电探测 条件给第一通信装置。本专利技术也提供如上所迷的激光测量系统,其中控制单元经由第二 通信装置传送计算结果到激光旋转照射设备,光量调节装置基于所接 收到的计算结果调节激光束的光量,以使光电探测信号位于预先确定 的范围内。进一步地,本专利技术提供如上所述的激光测量系统,其中控 制单元基于计算结果调节来自光电探测器的光电探测信号的放大条 件,以使光电探测信号位于预先确定的范围内。本专利技术还提供如上所 述的激光测量系统,其中控制单元经由第二通信装置传送计算结杲到 激光旋转照射设备,光量调节装置基于所接收到的计算结果调节激光 束的光量,控制单元基于计算结果调节来自光电探测器的光电探测信 号的放大条件,且光电探测信号通过调节光量和放大条件被调整到(turned to)预先确定的范围内。进一步地,本专利技术提供如上所述的 激光测量系统,其中在第 一通信装置在第 一预先确定的时段内没有接 收到来自光电探测设备的指示光电探测条件的信号的情况下,发光量 调节装置提高激光束的发光量。本专利技术也提供如上所述的激光测量系 统,其中,在第一通信装置在第二预先确定的时段内没有接收到来自 光电探测设备的指示光电探测条件的信号的情况下,光量调节装置降 低激光束的发光量。进一步地,本专利技术提供如上所述的激光测量系统, 其中在光电探测器在第二预先确定的时段内没有接收到光的情况下, 光电探测设备发出降低光量的信号给激光旋转照射设备,且发光量调 节装置降低激光束的发光量。本专利技术也提供如上所述的激光测量系统, 其中发光量调节装置还在从激光束的发光被降低的时间开始经过特定 预先确定的时段之后暂时提高激光束的发光量。进一步的,本专利技术提 供如上所述的激光测量系统,其中,在光电探测设备在第二预先确定 的时段内没有接收到光的情况下,判定水平测量操作处于中止(suspension)状态。本专利技术还提供如上所述的激光测量系统,其中, 在光电探测设备在较第二预先确定的时段长的第三预先确定的时段内 没有接收到光的情况下,判定水平测量操作已经终止。进一步的,本 专利技术提供如上所述的激光测量系统,其中中止状态的判定由激光旋转 照射设备给出。本专利技术还提供如上所述的激光测量系统,其中中止状 态的判定由光电探测设备给出。进一步的,本专利技术提供如上所述的激 光测量系统,其中操作终止的判定由激光旋转照射设备做出。本专利技术 还提供如上所述的激光测量系统,其中操作终止的判定由光电探测设 备做出。根据本专利技术,提供一种用于通过在旋转照射中投射激光束来形成 激光基准面的激光旋转照射设备,和一种用于通过接收激光束来执行 位置测量的光电探测设备,其中激光旋转照射设备包括激光束发射器、 用于调节激光束发射器的激光束的光量的发光量调节装置、和用于执 行与光电探测设备的通信的第一通信装置,且其中光电探测设备包括 用于探测基准面的光电探测器、用于执行去往和来自激光旋转本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种激光测量系统,包括用于通过在旋转照射中投射激光束来形成激光基准面的激光旋转照射设备,和用于通过接收激光束来执行位置测量的光电探测设备,其中该激光旋转照射设备包括激光束发射器、用于调节该激光束发射器的激光束的光量的发光量调节装置、和用于执行与所述光电探测设备的通信的第一通信装置,且其中所述光电探测设备包括用于探测基准面的光电探测器、用于执行去往和来自所述激光旋转照射设备的通信的第二通信装置、和用于计算来自所述光电探测器的光电探测信号是否位于预先确定的范围内的控制单元,其中所述第一通信装置传送所述激光旋转照射设备的激光束发射条件给所述第二通信装置,并且所述第二通信装置传送所述光电探测设备的光电探测条件给所述第一通信装置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:山崎贵章片山康隆
申请(专利权)人:株式会社拓普康
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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