一种曝光机、其制备方法以及其使用方法技术

本发明专利技术提供一种曝光机、其制备方法以及其使用方法。所述曝光机包括位于同一平面的第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板对应于所述曝光机的遮光区，所述第一挡板与所述第二挡板之间的区域对应于所述曝光机的曝光区；其中，所述第一挡板和所述第二挡板靠近所述曝光区的侧面均设置有吸光层，所述吸光层材料的最大禁带宽度为2.8eV。本发明专利技术通过在挡板靠近曝光区的侧面增加吸光层，能有效地将挡板边缘的杂散光吸收掉，从而减弱挡板边缘的漫反射现象，提高曝光精度。

【技术实现步骤摘要】
一种曝光机、其制备方法以及其使用方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种曝光机、其制备方法以及其使用方法。
技术介绍
目前，曝光机中的挡板的作用为遮挡曝光区域以外不需要曝光的区域，可以根据面板的排版以及需要曝光的区域来调整挡板的位置，从而达到曝光部分区域的目的。由于曝光光线在向下照射曝光时，在挡板边缘处存在一些杂散光，杂散光会发生漫反射，从而使得实际曝光图形失真，现有的佳能曝光机的挡板精度为1mm，相对较低，对于紧密排列的面板，难以实现精准的曝光，会导致实际曝光的图形失真。故，有必要改善这一缺陷。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种曝光机，用于解决现有技术的曝光机，其挡板边缘处的杂散光发生漫反射，导致实际曝光图形失真的技术问题。本专利技术实施例提供一种曝光机，包括位于同一平面的第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板对应于所述曝光机的遮光区，所述第一挡板与所述第二挡板之间的区域对应于所述曝光机的曝光区；其中，所述第一挡板和所述第二挡板靠近所述曝光区的侧面均设置有吸光层，所述吸光层材料的最大禁带本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光机，其特征在于，包括位于同一平面的第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板对应于所述曝光机的遮光区，所述第一挡板与所述第二挡板之间的区域对应于所述曝光机的曝光区；/n其中，所述第一挡板和所述第二挡板靠近所述曝光区的侧面均设置有吸光层，所述吸光层材料的最大禁带宽度为2.8eV。/n

【技术特征摘要】
1.一种曝光机，其特征在于，包括位于同一平面的第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板对应于所述曝光机的遮光区，所述第一挡板与所述第二挡板之间的区域对应于所述曝光机的曝光区；
其中，所述第一挡板和所述第二挡板靠近所述曝光区的侧面均设置有吸光层，所述吸光层材料的最大禁带宽度为2.8eV。


2.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述吸光层材料为硒化镉、或硫化镉、或磷化镓。


3.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述吸光层的厚度范围为0.1微米至1微米。


4.一种曝光机的制备方法，其特征在于，包括步骤：
提供第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板位于同一平面，所述第一挡板和所述第二挡板对应于所述曝光机的遮光区，所述第一挡板与所述第二挡板之间的区域对应于所述曝光机的曝光区；以及
在所述第一挡板和所述第二挡板靠近所述曝光区的侧面均制备吸光层，所述吸光层材料的最大禁带宽度为2.8eV。


5.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭钊，吴思嘉，刘文波，黄远科，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44