【技术实现步骤摘要】
可拆卸的、可用于真空密封用的单晶金刚石窗口
本专利技术属于真空微电子
,具体涉及一种金刚石单晶片加工用于光学领域的真空密封用的方法。
技术介绍
光学领域的真空密封用的窗口材料,要求其光学透过性要高,同时要有足够的机械强度用于真空密封。当大能束通过窗口时,窗口材料本身的散热能力以及相应的真空密封部件的散热能力也是需要重点考虑的方面。单晶金刚石膜,由于具有十分优越的性能,因此在很多领域有着广泛的应用。天然钻石数量稀少,价格昂贵;用高温高压法(HTHP法)制备的人造金刚石,由于含有金属催化剂,也影响到金刚石的性质;用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,在特定的晶种表面可以生长出高质量的单晶金刚石,是理想的光学窗口材料。将金刚石用作窗口材料有两种类型:CVD多晶金刚石膜;CVD单晶金刚石膜。相对于CVD多晶金刚石膜窗口材料,CVD单晶金刚石膜由于原子排列整齐,其光学透明性,抗辐射能力更强。但由于制备方法的限制,目前所制备出来的单晶金刚石膜片的几何尺寸很少超过直径10毫米的;而且由于通过光束的要求,有一些场合需要 ...
【技术保护点】
1.一种可拆卸的、可用于真空密封用的单晶金刚石窗口,其特征在于,包含一单晶金刚石圆片,所述单晶金刚石圆片包含抛光的双面。/n
【技术特征摘要】
1.一种可拆卸的、可用于真空密封用的单晶金刚石窗口,其特征在于,包含一单晶金刚石圆片,所述单晶金刚石圆片包含抛光的双面。
2.根据权利要求1所述的单晶金刚石窗口,其特征在于:在所述单晶金刚石圆片靠近其圆周处的正反两面各设置有一层厚度在1.0-4.0微米厚的导电金刚石膜,宽度为1.5-2.0毫米。
3.根据权利要求2所述的单晶金刚石窗口...
【专利技术属性】
技术研发人员:满卫东,龚闯,朱长征,吴剑波,
申请(专利权)人:上海征世科技有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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